번호 제목 조회 수
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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69624
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 94413
363 plasma sheath 두께의 영향에 대하여 질문드립니다. [Child-Langmuir sheath model] [2] 3713
362 RF Power와 균일도 연관성 질문드립니다 [고주파 플라즈마 반응 특성] [2] 3724
361 CCP 구조가 ICP 구조보다 Arcing 발생에 더 취약한가요? [Breakdown 전기장, 아크 방전] [3] 3743
360 Gas 별 Plasma 색 관련 질문입니다. [Gas별 고유한 플라즈마 색] [1] 3775
359 Plasma Etch시 Wafer Edge 영향 [Standing wave 및 플라즈마 밀도 분포] [1] 3777
358 dry etching중 온도, 진공도, glass상태에 따라 chucking force가 변화하는지요? [표면 하전 특성 및 chucking 불안정성] [1] 3843
357 ICP-RIE process 및 plasma에 대해 질문있습니다. [Etch와 IEDF] [2] 3855
356 Vpp, Vdc 측정관련 문의 [Self bias와 DC offset] [1] 3900
355 플라즈마 임피던스와 Vpp가 관련이 있나요? [플라즈마 주파수와 Vpp, sheath] [1] 3936
354 DC스퍼터링과 RF 스퍼터링에서의 처음 전자의 출처와 처음 이온의 생성 질문 [플라즈마 생성과 Sputtering] [2] 3957
353 Descum 관련 문의 사항. [라디컬 및 이온 생성과 플라즈마 생성 메커니즘] [1] 3959
352 the lines of magnetic induction are frozen into the perfectly conducting material에 대한 질문 [Ideal MHD plasma의 magnetic flux conservation] [1] file 4006
351 CCP/ICP 의 플라즈마 밀도/균일도 에 대해서 질문이 있습니다. [Plasma source와 loss] [3] 4049
350 Plasma 식각 test 관련 문의 [플라즈마 데이터 처리] [1] 4066
349 진공장치 챔버내 산소 또는 수분 제거 방법에 대해 [Chemisorption과 pruege gas] [1] 4100
348 ICP plasma에서 RF bias에 대한 문의가 있습니다 [Self bias 및 플라즈마 방전 매커니즘] [2] 4208
347 RPSC 관련 질문입니다. [플라즈마 발생과 쉬스 형성, 벽면 및 시료 demage] [2] 4247
346 SiO2 박말 밀도와 반응성 간 상관 관계 질문 [세정 시간 및 식각 효율] [1] 4266
345 플라즈마 식각 공정 중 폴리머의 거동 [재료 표면 반응] [1] 4269
344 Depostion 진행 중 matcher(shunt, series) 관계 질문 [Matcher와 VI sensor] [3] 4276
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