Others Group Delay 문의드립니다.
2019.06.26 14:07
안녕하세요
회사에서 필터 연구를 하고 있는 김동규 라고 합니다.
궁금한점이 있는데요, 마땅히 물어볼만한 곳이 없어서 이곳에서 혹시나 도음을 얻을 수 있을까해서 문의 드립니다.
계측기에서 필터 특성 값 S21, S12 값을 뽑아 냈는데요
파일이 실수와 허수 값으로 나타나 있습니다.
예를 들면
1800MH에서 S21RE는 -0.0000926, S21IM은 0.0001257
1800.5MHz 에서 S21RE는 -0.0001249, S21IM은 0.0000956
이렇게 주파수 별로10Gz 까지 나열 되어있는데요
위 값만 가지고 계산으로 Group delay 값을 구할 수 있을까요?
(계측기에서 볼 수 있지만 엑셀 파일로 계산에서 보고 싶거든요)
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [88] | 2706 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 13921 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 49851 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 61794 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [2] | 80486 |
200 | ECR 플라즈마에 대해서 질문 드립니다. [1] | 995 |
199 | 플라즈마 실험을 하고 싶은 한 고등학생입니다.... [1] | 992 |
198 | Ar과 O2 plasma source에 따른 ignition condition에 대하여 질문 있습니다. [1] | 989 |
197 | Depo시 RF 초기 Reflect 관련하여 문의드립니다. [1] | 983 |
196 | 플라즈마 에칭 과 표면처리 의 차이점 질문드립니다. [1] | 979 |
195 | 자기 거울에 관하여 | 973 |
194 | N2 Plasma 상태에 대해서 질문 드립니다. [1] | 968 |
193 | 압력, 유량과 residence time에 대해 질문있습니다. [1] | 947 |
192 | 플라즈마의 직진성에 관해 질문드립니다. [2] | 946 |
191 | Pecvd 장비 공정 질문 [1] | 945 |
190 | micro plasma에 사용되는 전력을 알고 싶습니다. [1] | 927 |
189 | CVD품질과 RF Delivery power 관계 질문 [1] | 922 |
188 | CCP기반 power와 Etch rate 관계에 대해 여쭈어드립니다. [3] | 920 |
187 | 쉬쓰 천이지역에 관한 질문입니다. [1] | 916 |
186 | ICP reflecot power 관련 질문드립니다. [1] | 915 |
185 | [CVD] 막 증착 관련 질문입니다. [4] | 911 |
184 | RF/LF에 따른 CVD 막질 UNIFORMITY [1] | 908 |
183 | 플라즈마 코팅 [1] | 900 |
182 |
CCP 챔버 접지 질문드립니다.
[1] ![]() | 894 |
181 | CCP plasma에서 gap과 Pressure간의 상관관계 [1] | 891 |
마이트로파 문제로 보입니다. 광운공대의 최진주교수님, 서울대 전자공학과 남상욱교수님께 문의드려 보세요.