CCP CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점.

2010.01.28 19:44

kailo 조회 수:23259 추천:157

안녕하세요? 궁금한게 있어서 여쭤봅니다.
Source는 CCP방식입니다. 13.56MHz로 구동되고 matcher 단에서 low pass filter를 통해 나오는 Vdc 값을 모니터링합니다.
그런데 Source 전극에 anodizing처리를 했는데 품질이 좋지 못한 anodizing의 경우에는 Vdc 값이 "-"로 뜨는데 고품질 anodizing의 경우에는 "+"값을 띕니다.
고품질의 경우에는 CCP 소스면에서 완전히 floating되어서 그러는것 같은데
정확한 메카니즘을 이해할 수 없어서 문의드립니다.
왜 "+"값을 나타내는지에 대해 설명해 주실수 있는지요?
플라즈마 방전은 저품질이나 고품질 모두 이상없이 뜹니다.

이 게시물을
수정 삭제 목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [266] 76677
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20152
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57151
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68672
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92182
307 RF chamber에서.. particle(부유물) 와 RF reflect power연관성 [1] 4163
306 PPV(플라즈마 용융 유리화)에 관해 질문드립니다. [1] 842
305 3 stub 정합에 대해 궁금합니다. [1] 1907
304 Plasma 에칭 후 정전기 처리 [3] 3051
303 Dry Etching Uniformity 개선 방법 [2] 4263
302 micro plasma에 사용되는 전력을 알고 싶습니다. [1] 1218
301 ICP 내부 기체 비율에 따른 spectrum intensity 변화 [1] 1840
300 다중 주파수를 이용한 플라즈마 식각에서 이온 에너지 제어 관련 [1] 1682
299 DC스퍼터링과 RF스퍼터링에서의 처음 전자의 출처와 처음 이온의 생성 질문 [2] 3793
298 M/W, RF의 Plasma에 의한 Ashing 관련 문의드립니다. [1] 3158
297 저온 플라즈마 장비에 관련하여 자문을 구합니다. 9842
296 Bipolar, J-R Type Electrostatic Chuck 에서의 Discharge 원리가 궁금합니다. 8632
295 DBDs 액츄에이터에 관한 질문입니다. [3] 1330
294 N2 Blowing Ionizer 사용 시 궁금점 질문 드립니다. [1] 1805
293 부도체를 타겟으로 한 플라즈마 형성 원리 [1] 2234
292 수방전 플라즈마 살균 관련...문의드립니다. [1] 1393
291 HF+LF 사용 중. HF Power 증가 시 Deposition Rate 감소 현상 문의 [1] 2888
290 수중 방전 관련 질문입니다. [1] 9660
289 양극 코로나 방전에 대한 질문입니다. [1] 2171
288 13.56MHz resonator 해석 관련 문의 [1] 1948
쓰기
태그

Boards

XE Login