질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
2010.11.25 15:38
플라즈마에 관심있으신 모든 분이 활용하고 플라즈마의 지식을 공유할수 있는 공간을 제공한다라는 원칙을 갖고 있습니다. 따라서 의견을 개진 하실 때는 자신의 이름을 분명히 밝혀주셔야 합니다. 그럼으로써 서로 알고 있는 플라즈마의 지식을 자유롭게 공유할 수 있을 것 입니다. 이 사항을 협조하여 주지기 바랍니다. 본인의 이름을 밝히지 않는 사람의 의견은 일주일 이내에 내용이 삭제됩니다.
댓글 3
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [160] | 73076 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 17641 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 55521 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 65728 |
| » | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 86104 |
| 227 | Pecvd 장비 공정 질문 [1] | 1247 |
| 226 | charge effect에 대해 [2] | 1241 |
| 225 | O2 plasma etching 관련 질문이 있습니다. [1] | 1238 |
| 224 | RF 케이블 발열 현상관련 문의 드립니다. | 1232 |
| 223 | DBDs 액츄에이터에 관한 질문입니다. [3] | 1218 |
| 222 | CVD품질과 RF Delivery power 관계 질문 [1] | 1215 |
| 221 | EEDF, IEDF, Cross section관련 질문 [1] | 1202 |
| 220 | Depo시 RF 초기 Reflect 관련하여 문의드립니다. [1] | 1191 |
| 219 | [질문] Plasma 장비에 대한 Monitoring 질문 [2] | 1184 |
| 218 | ESC 표면 온도랑 식각률의 차이가 어떤 관계로 있는걸까요?? [1] | 1177 |
| 217 | 플라즈마 기초입니다 [1] | 1149 |
| 216 | PECVD 증착에서 etching 관계 [1] | 1125 |
| 215 | ICP Chamber Type의 Belljar Arcing관련 문의드립니다. [2] | 1115 |
| 214 | LF Power에의한 Ion Bombardment [2] | 1109 |
| 213 | Langmuir probe의 위치에 관한 질문입니다. [3] | 1106 |
| 212 | 매칭시 Shunt와 Series 값 [1] | 1102 |
| 211 | [CVD] 막 증착 관련 질문입니다. [4] | 1088 |
| 210 | 플라즈마의 직진성에 관해 질문드립니다. [2] | 1084 |
| 209 | RF 전압과 압력의 영향? [1] | 1077 |
| 208 | Matcher의 효율에 대한 내용에 대해서 궁금합니다. [1] | 1077 |