Others RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동

2009.08.05 12:52

조정안 조회 수:24772 추천:241

수고가 많으십니다.
저희 회사는 반도체, LCD장비 제작 회사들로 Motion Controller와 Servo ,Step Motor등을 공급하는 회사입니다.
업체 상담중에 문의사항이 있어서 조언을 구하고자 질문을 올려 드립니다.
Sputter 장비의 vacuum정도는 10 -3 torr, 공정온도는 약 100 도 정도입니다. Chamber내부에서 Motion을 구현 하고자 합니다. Chamber내부에 Vacuum용 모터를 사용하고자는데  RF 플라즈마에 의한 노이즈로 Motor 사용에 대한 부분을 우려하고 있습니다. 일반적으로 Chamber 외부로 Motion부분을 빼내어 메탈 벨로우즈를 이용한 방법으로 Motion을 사용한다고 하는데, Vacuum용 Motor를 RF 플라즈마 챔버내에서 사용하는 것이 가능한지 가능하다면 어떤 방법이 있는지 답변 부탁드립니다.
그럼 수고하십시요.

이 게시물을
수정 삭제 목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] 76727
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20184
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57167
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68699
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92278
309 Matcher 구성에 따른 챔버 임피던스 영향에 대해 문의드립니다. [1] 1515
308 IMPEDANCE MATCHING PATH에서 S/H ~ MATCHER 간 전력전송 방법들에 대해 문의드립니다. [2] 1514
307 plasma 형성 관계 [1] 1514
306 glow 방전 현상과 플라즈마 현상에 궁금하여 글 남깁니다. [2] 1506
305 PECVD 증착에서 etching 관계 [1] 1498
304 연속 plasma 방전시 RF power drop 및 Reflect 발생 [1] 1486
303 charge effect에 대해 [2] 1465
302 플라즈마 rotational temperature에 관해서 질문드릴게 있습니다. [1] 1463
301 Impedence 위상관련 문의.. [1] 1463
300 rf chamber 내에 생기는 byproduct에 대한 질문 있습니다. [1] 1459
299 RF 케이블 발열 현상관련 문의 드립니다. 1459
298 알고싶습니다 [1] 1457
297 Plasma 발생영역에 관한 질문 [2] 1454
296 PECVD와 RIE의 경계에 대해 [1] 1452
295 강의를 들을 수 없는건가요? [2] 1445
294 N2 / N2O Gas 사용시 Plamsa 차이점 [1] 1444
293 PECVD 공정 진행중 chamber wall 부분에서 보이는 plasma instability 관련 질문 드립니다. [1] 1441
292 Ar plasma power/time [1] 1437
291 ICP lower power 와 RF bias [1] 1436
290 MATCHER 발열 문제 [3] 1429
쓰기
태그

Boards

XE Login