안녕하세요.

 

Etching과 Deposition을 같이 최근에 공부를 시작하고 있는 회사원입니다.

다름이 아니라, 

   최근 기사에서 LCD->OLED로 넘어가는 과정에서 OLED 특성상(유기발광체 때문??) SF6를 NF3로 대체가 어렵다는

   내용의 기사를 봤습니다.

 

질문은

   1. OLED에서 SF6는 어느공정(Etching / Chamber Cleaning / ??)에 주로 사용되나요?

   2. SF6를 NF3로 대체할 수 있는 이유는 뭔가요?

   3. CF4도 사용되는 것으로 아는데, 어느공정에 주로 사용되나요?

 

고수님들의 답변 부탁드립니다.

가지고 계신 문헌과 특허라도 알려주시면 크게 감사드립니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76539
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20076
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57115
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68613
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91695
303 CCP에서 DIelectric(유전체)의 역활 [1] 7629
302 플라즈마 쪽에 관심이 많은 고등학생입니다. [1] 7695
301 MFP에 대해서.. [1] 7817
300 플라즈마 균일도에 대해서 질문드립니다. [1] 8022
299 RF Power reflect 관련 문의 드립니다. [4] 8035
298 고온 플라즈마 관련 8090
297 플라즈마 발생 억제 문의 [1] 8114
296 상압 플라즈마에 관하여 문의 드립니다. [1] 8121
295 Ar Gas 량에 따른 Deposition Rate 변화 [1] 8559
294 핵융합에 대하여 8561
293 Microwave 장비 관련 질문 [1] 8561
292 Bipolar, J-R Type Electrostatic Chuck 에서의 Discharge 원리가 궁금합니다. 8564
291 Lecture를 들을 수 없나요? [1] 8575
290 N2 환경에서의 코로나 방전을 통한 이온생성에 대한 질문입니다. [1] file 8600
289 ICP와 CCP는 단순히 플라즈마를 생서하는 방법인가요? [1] 8660
288 수중플라즈마에 대해 [1] 8720
287 Sheath와 Darkspace에 대한 질문입니다. [1] 8903
286 RF & DC sputtering에 대해 질문드립니다. [1] 8953
285 안녕하세요 교수님. [1] 8992
284 진공챔버내에서 플라즈마 발생 문의 [1] 9195

Boards


XE Login