Chamber Impedance Reflrectance power가 너무 큽니다.

2010.06.01 23:24

최두호 조회 수:24827 추천:146

안녕하세요.
저는 미국 카네기멜론 대학 재료공학과 박사과정에 재학중인 최두호라고 합니다.

rf 스퍼터링 시스템이 랩에 있는 데, 예전에는 rf 스퍼터로 SiO2를 증착하였는 데(reflectance power는 거의 0), 언제부턴가 reflectance power가 너무 큽니다. (forward가 100W 이면, reflectnace power는 70 W 정도).

Advanced Energy 사의 controller를 쓰는 데요, 주로 오토모드로 사용을 합니다. 매뉴얼 모드로 하면 오히려 reflectance power가 더 올라가더라구요.

그래도 플라즈마 glowing은 유지가 되구요. (rf 자체로는 되지가 않고, 같은 chamer에 연결된 dc로 먼저 플라즈마를 만들고, rf를 켜고, dc를 끄면 plasma가 유지가 됩니다.)

그런데, dc bias가 너무 낮네요. 예전에 제대로 동작할 때는 fowrad bias가 100 W 일 때, dc bias가 -200 V  정도 되었는 데요, 현재는 -60~70V 밖에 되지 않습니다. 그래서 forward를 올리니까 dc bias도 커지더군요. (reflectance power도 올라갑니다)
이런 식으로 해서 forward를 증가시켜 dc bias를 증가시키는 방법으로 해도 장비나 케이블에 무리가 가지 않나요?

재료과라서 impednace에 대해 거의 모릅니다. 쉽게 설명해주시면 감사하겠습니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76539
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20076
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57115
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68613
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91695
283 저온 플라즈마에 관해서 [1] 6620
282 플라즈마 rotational temperature에 관해서 질문드릴게 있습니다. [1] 1452
281 방전에서의 재질 질문입니다. [1] 3552
280 RF calibration에 대해 질문드립니다. 5784
279 N2 환경에서의 코로나 방전을 통한 이온생성에 대한 질문입니다. [1] file 8600
278 the lines of magnetic  induction are frozen into the perfectly conducting material에 대한 질문 [1] file 3977
277 정전척 isolation 문의 입니다. [1] 7589
276 Microwave 장비 관련 질문 [1] 8561
275 플라즈마 균일도에 대해서 질문드립니다. [1] 8022
274 진공챔버내에서 플라즈마 발생 문의 [1] 9195
273 ETCH 관련 RF MATCHING 중 REF 현상에 대한 질문입니다. [1] 7062
272 플라즈마 건식식각 장비 부품 정전척 공정 진행 후 외각 He-hole 부위 burning 현상 매카니즘 문의.. [1] 6452
271 ICP 구성에서 PLASMA IGNITION시 문의 [1] 9816
270 액체 안에서의 Dielectric Barrier Discharge에 관하여 질문드립니다! [1] 6408
269 Remote Plasma에서 Baffle 재질에 따른 Plasma 특성 차이 [1] 10336
268 저온플라즈마에 대하여 ..질문드립니다 ㅠ [1] 6463
267 공동형 플라즈마에서 구리 전극의 식각 문제 [2] 6358
266 RF & DC sputtering에 대해 질문드립니다. [1] 8953
265 Sheath와 Darkspace에 대한 질문입니다. [1] 8903
264 플라즈마 데미지에 관하여.. [1] 6483

Boards


XE Login