반도체 공정과 관련하여 DIFF 공정 진행 간, TEMP와 RF 간에 상관 관계가 궁금하여 문의 드립니다.

NH3의 분해와 관련하여 상온 기준 RF POWER를 인가한다고 했을때 분해 가능한 수준이 어느 정도인지 궁금합니다.(W 기준)

그리고 추가로 문의 드리고 싶은 사항은 TEMP와 RF 간에 상관 관계입니다. TEMP가 변화하는 정도에 따른 RF의 변화 정도가 어떻게 되는지 궁금해서 문의 드립니다.

정답이 힘들다면 참고 및 이해할 수 있는 답변을 좀 부탁 드립니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [266] 76677
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20151
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57151
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68672
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92182
287 Sheath와 Darkspace에 대한 질문입니다. [1] 8916
286 RF & DC sputtering에 대해 질문드립니다. [1] 8975
285 안녕하세요 교수님. [1] 9019
284 진공챔버내에서 플라즈마 발생 문의 [1] 9221
283 공기정화기, 표면개질, PDP. 플라즈마응용 9261
282 에칭후 particle에서 발생하는 현상 9504
281 Ion Energy와 RF matchin관련 질문입니다. [1] 9514
280 대기압 플라즈마에 대해서 9632
279 수중 방전 관련 질문입니다. [1] 9660
278 저온 플라즈마 장비에 관련하여 자문을 구합니다. 9842
277 ICP 구성에서 PLASMA IGNITION시 문의 [1] 9844
276 플라즈마에 하나도 모르는 완전초보입니다..도와주십시오ㅠㅠ [1] 9953
275 미국의 RF 관련 회사 문의드립니다. [1] 10295
274 matcher에서 load,tune의 역할이 궁금합니다. [1] 10324
273 Remote Plasma에서 Baffle 재질에 따른 Plasma 특성 차이 [1] 10350
272 플라즈마 PIC 질문드립니다. [1] 10375
271 RGA에 대해서 10539
270 DC bias (Self bias) [3] 11249
269 Arcing(아킹) 현상 및 local plasma 관련 문의 [1] 11272
268 N2, Ar Plasma Treatment 질문입니다. [1] 11382

Boards


XE Login