Plasma 에서 Coupled (결합) 의 의미
2017.12.17 01:31
안녕하세요.
반도체 assembly 회사에서 근무하고 있습니다.
ICP / CCP 에서 coupled (결합) 란 의미가 plasma 관점에서 정확히 무엇인지 알수 있나요?
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] | 76539 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20076 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57115 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68613 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 91695 |
283 | N2 / N2O Gas 사용시 Plamsa 차이점 [1] | 1411 |
282 | ICP lower power 와 RF bias [1] | 1403 |
281 | poly식각을 위한 조언 부탁드립니다. | 1399 |
280 | dbd-플라즈마 질문있어욤!!!!! [1] | 1395 |
279 | 수방전 플라즈마 살균 관련...문의드립니다. [1] | 1391 |
278 | 플라즈마 관련 교육 [1] | 1383 |
277 | ESC Polymer cracking 제거를 위한 ISD 공정 문의 | 1383 |
276 | 플라즈마 내에서의 현상 [1] | 1382 |
275 | Matcher의 효율에 대한 내용에 대해서 궁금합니다. [1] | 1365 |
274 | [질문] Plasma 장비에 대한 Monitoring 질문 [2] | 1363 |
273 | 부가적인 스퍼터링 관련 질문 드립니다. [1] | 1352 |
272 | Langmuir probe의 위치에 관한 질문입니다. [3] | 1338 |
271 | low pressure 영역에서 아킹이 더 쉽게 발생하는 이유에 관해 문의드립니댜. [1] | 1336 |
270 | Plasma arcing 관련하여 문의드립니다. [1] | 1332 |
269 | OES 분석 관련해서 질문드립니다. [1] | 1327 |
268 | DBDs 액츄에이터에 관한 질문입니다. [3] | 1322 |
267 | Plasma Cleaning 관련 문의 [1] | 1320 |
266 | CCP 챔버 접지 질문드립니다. [1] | 1318 |
265 | 플라즈마 진단에서 rogowski 코일 관련 질문 드립니다. [1] | 1317 |
264 | CVD 막질의 성질에 대해 질문드립니다. [1] | 1307 |
플라즈마 소스에서 coupled의 의미는 plasma 생성에 필요한 전자 가열을 위한 에너지 전달을 의미합니다. 즉 에너지 전달 메카니즘으로, inductively coupled 란 Faraday's induction law로 부터 시간 변화 자기력에 의한 기전력이 전가 가속을 시킴을 의미하며, capacitively coupled 의 의미는 diode 형태의 전극 사이에 형성되는 전기장으로 부터 전자 가속이 이뤄짐을 의미합니다. 이들 coupling 영역은 ICP에서는 skin depth 내에서, CCP에서는 sheath 경계에서 발생합니다. 아울러 인가 전력은 플라즈마 공간 내에서 Joule 가열로도 사용이 되므로, power coupling을 고려하면 전자 가열+줄 가열의 크기를 종합하여, 인가 전력의 플라즈마로의 전력 전달을 의미하는 표현이라 할 수 있고, 그 효율에 대해서 보다 관심을 크게 갖게 됩니다. 본 게시판에서 CCP/ICP/ plasma breakdown 등의 내용을 살펴 보시기 바랍니다.