Deposition 기판 위에서 Radical의 운동역학에 관하여 질문드립니다.
2019.05.22 16:11
안녕하세요. 반도체 회사에 근무중인 회사원 입니다.
다름이 아니고 PECVD로 박막 증착 시 Radical들의 움직임에 관해 궁금한 점이 있어서 글을 올립니다.
Radical이 Wafer위에서 migration후 반응하여 island를 만들고 그 섬들이 성장하여 박막을 형성하는 것으로 알고 있는데
Radical이 가지는 에너지, 기판의 온도, 기판을 이루는 물질과의 결합에너지 등을 통해 Radical이 기판위에서
평균적으로 얼마나 움직이는지, 어느 위치를 안정적인 site로 인식하고 반응하는지 등을 알 수 있을까요?
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] | 76727 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20183 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57167 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68699 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92278 |
289 | Depo시 RF 초기 Reflect 관련하여 문의드립니다. [1] | 1425 |
288 | O2 plasma etching 관련 질문이 있습니다. [1] | 1423 |
287 | ESC Polymer cracking 제거를 위한 ISD 공정 문의 | 1417 |
286 | poly식각을 위한 조언 부탁드립니다. | 1409 |
285 | 플라즈마 관련 교육 [1] | 1406 |
284 | dbd-플라즈마 질문있어욤!!!!! [1] | 1402 |
283 | 수방전 플라즈마 살균 관련...문의드립니다. [1] | 1395 |
282 | 플라즈마 내에서의 현상 [1] | 1388 |
281 | 부가적인 스퍼터링 관련 질문 드립니다. [1] | 1386 |
280 | Ashing 공정에 필요한 O2 plasma에 대해 궁금한 점이 있습니다. [1] | 1377 |
279 | Matcher의 효율에 대한 내용에 대해서 궁금합니다. [1] | 1376 |
278 | [질문] Plasma 장비에 대한 Monitoring 질문 [2] | 1375 |
277 | OES 분석 관련해서 질문드립니다. [1] | 1369 |
276 | Plasma arcing 관련하여 문의드립니다. [1] | 1354 |
275 | low pressure 영역에서 아킹이 더 쉽게 발생하는 이유에 관해 문의드립니댜. [1] | 1353 |
274 | Langmuir probe의 위치에 관한 질문입니다. [3] | 1349 |
273 | Plasma Cleaning 관련 문의 [1] | 1345 |
272 | CVD 막질의 성질에 대해 질문드립니다. [1] | 1332 |
271 | DBDs 액츄에이터에 관한 질문입니다. [3] | 1330 |
270 | CCP 챔버 접지 질문드립니다. [1] | 1324 |
제가 이 분야에 문외한이어서, 서울대학교 재료공학과의 황농문 교수님 혹은 성균과대학교 기계공학부의 김태성 교수님에게 문의드려 보시면 좋은 답변을 얻으실 수 있을 것 같습니다.