안녕하십니까, 교수님
저는 국내 디스플레이 장비 업체에서 근무 중인 직장인 김준현이라고 합니다.
항상 좋은 답변 해주셔서 업무 진행에 있어 많은 도움을 받고 있습니다.

 

최근 arcing 관련 내용을 공부 중에 있는데요, 궁금한 점이 생겨 이렇게 문의드리게 되었습니다.

 

질문들은 하기와 같습니다. 

 

1. arcing 발생 방지에 있어, ground가 중요한 이유가 무엇인가요...?

 

2. 벽표면 혹은 전극 표면 등에 쌓인 부도체 물질, particle 등이 acring 발생에 어떤 영향을 주는지 그 메카니즘에 관해 알고 싶습니다.    

 

3. 특정 조건에서 기판 지지체 하부에 잔류 플라즈마 발생을 확인할 수 있었는데요, 기판지지체 하부에는 RF Power가 직접적으로 가해지지 않는데 왜 플라즈마가 유지/생성될 수 있는지 궁금합니다. 

 

이상입니다.

 

감사합니다.
 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] 76711
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20163
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57163
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68686
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92251
268 ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다!! [1] 1320
267 플라즈마 진단에서 rogowski 코일 관련 질문 드립니다. [1] 1319
266 I-V characteristic에 관하여 질문이 있습니다. [1] 1315
265 텅스텐 Etch 관련하여 질문드립니다. [1] 1306
264 [CVD] 막 증착 관련 질문입니다. [4] 1292
263 플라즈마에서 가속 전압 또는 RF 파워 관련 질문드려요. [1] 1286
262 플라즈마 기초입니다 [1] 1281
261 ICP Chamber Type의 Belljar Arcing관련 문의드립니다. [2] 1271
260 임피던스 매칭 및 플라즈마 진단 [1] 1269
259 Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [1] 1263
258 Plasma etch관련 질문이 드립니다. [1] 1241
257 플라즈마 챔버 [2] 1239
256 RF Power 인가 시 Gas Ramping Flow 이유 [1] 1238
255 플라즈마의 직진성에 관해 질문드립니다. [2] 1235
254 플라즈마 형성시 하전입자의 밀도와 챔버에 관련해서 질문드립니다. [2] 1225
253 반도체 관련 플라즈마 실험 [1] 1222
252 micro plasma에 사용되는 전력을 알고 싶습니다. [1] 1220
251 RF Generator 주파주에 따른 Mathcer Vrms 변화. [1] 1189
250 챔버 임피던스 변화에 따른 공정변화 [1] 1182
249 ICP, CCP 그리고 Ion Implantation 공정 관련 질문 드립니다. [1] 1176

Boards


XE Login