Sputtering DCMagnetron Sputter에서 (+)전원 인가시
2004.06.25 16:40
질문 ::
DC MAGNETRON SPUTTER에서 T/G쪽에 (-)를 인가하는데
(+)를 인가하면 SPUTTERING이 가능한지요?????
답변 ::
Sputtering은 타겟 표면의 에너지를 인가하여 시편 표면의 원자들이
튀어나옴으로서 가능합니다. 따라서 타겟 표면에 에너지를 효율적으로
전달하기 위해서는 플라즈마 내에서 질량이 큰 입자를 사용하고
이 입자에 에너지를 효율적으로 줄 수 있어야 합니다. 이 조건을
만족하는 것은 이온으로 양전하를 띄고 있어 전기장을 인가함으로서
이온에 에너지를 줄 수 있으며 질량도 큽니다. 따라서 에너지 높은
이온을 이용하려면 타겟에 음전위를 인가해야 할 지 양전위를 인가해야
할가에 대한 답이 나옵니다. 여기서 양전위 혹은 음전위의 기준 전위는
밖에서 정하는 접지 전위가 아닌 플라즈마 전위 혹은 플라즈마 부유 전위가 기준이 됩니다. 참고하세요
댓글 0
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [266] | 76663 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20149 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57149 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68669 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92154 |
267 | 공동형 플라즈마에서 구리 전극의 식각 문제 [2] | 6363 |
266 | RF & DC sputtering에 대해 질문드립니다. [1] | 8975 |
265 | Sheath와 Darkspace에 대한 질문입니다. [1] | 8916 |
264 | 플라즈마 데미지에 관하여.. [1] | 6491 |
263 | VPP, VDC 어떤 FACTOR 인지 알고 싶습니다. [1] | 54864 |
262 | 수중플라즈마에 대해 [1] | 8738 |
261 | [기초]CCP Type에서의 Self-Bias(-Vdc) + Vp (plasma potential) 관련 질문입니다. [1] | 12751 |
260 | 상압 플라즈마에 관하여 문의 드립니다. [1] | 8133 |
259 | 플라즈마에 하나도 모르는 완전초보입니다..도와주십시오ㅠㅠ [1] | 9952 |
258 | 고온 플라즈마 관련 | 8090 |
257 | 안녕하세요 교수님. [1] | 9016 |
256 | Lecture를 들을 수 없나요? [1] | 8578 |
255 | 플라즈마가 생기는 메커니즘에 대한 질문입니다. [1] | 13052 |
254 | MFP에 대해서.. [1] | 7820 |
253 | 안녕하세요, 질문드립니다. [2] | 6569 |
252 | 플라즈마 쪽에 관심이 많은 고등학생입니다. [1] | 7702 |
251 | 미국의 RF 관련 회사 문의드립니다. [1] | 10295 |
250 | 플라즈마 발생 억제 문의 [1] | 8118 |
249 | ICP dry etch 장비에서 skin depth가 클수록 좋다고 볼 수 있는 건가요? [1] | 24317 |
248 | Sputtering 중 VDC가 갑자기 변화하는 이유는 무엇인가요? | 15885 |