Others 공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제...

2009.03.20 12:36

기계공학사 조회 수:26455 추천:279

RF에 관심이 많은 학구파 기계공학 엔지니어 입니다.

제목에서와 같이 공정챔버에서의 아킹원인과 노이즈에 관해 궁금한 것이 있어서 입니다.

우선 아킹(번개 등)의 원인이 전하차에 의해 높은곳에서 낮은 곳으로 이동하면서 생기는 것으로 알고있습니다.

저희 공정챔버의 경우 기존 제품은 나름대로 양호하나, 현재 개조된 챔버에 대해서는

상당한 아킹과 노이즈를 겪고 있습니다.

우선, 개조사양은

챔버의 체적이 약 15% 커짐(고진공상태;100mTorr이하)

상부 안테나와 접하는 세라믹 순도가 99.98->99.99%로 변경(큰 영향은 없을 것으로 보임)

상부 안테나의 상부를 커버하는 알루미늄재질의 커버가 기존대비 약 10% 늘어남.

RF 구동 조건은

상부 13.56Mhz 약 5,000W
하부 13.56Mhz 약 7,000W

이며, 접지는 제3종 일것으로 생각됩니다.

여기서 아킹의 원인과 노이즈가 발생할 만한 것이 있을 수 있는지?

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76541
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20077
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57115
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68615
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91697
263 VPP, VDC 어떤 FACTOR 인지 알고 싶습니다. [1] 54786
262 수중플라즈마에 대해 [1] 8720
261 [기초]CCP Type에서의 Self-Bias(-Vdc) + Vp (plasma potential) 관련 질문입니다. [1] 12735
260 상압 플라즈마에 관하여 문의 드립니다. [1] 8124
259 플라즈마에 하나도 모르는 완전초보입니다..도와주십시오ㅠㅠ [1] 9910
258 고온 플라즈마 관련 8090
257 안녕하세요 교수님. [1] 8994
256 Lecture를 들을 수 없나요? [1] 8575
255 플라즈마가 생기는 메커니즘에 대한 질문입니다. [1] 13043
254 MFP에 대해서.. [1] 7817
253 안녕하세요, 질문드립니다. [2] 6569
252 플라즈마 쪽에 관심이 많은 고등학생입니다. [1] 7695
251 미국의 RF 관련 회사 문의드립니다. [1] 10280
250 플라즈마 발생 억제 문의 [1] 8114
249 ICP dry etch 장비에서 skin depth가 클수록 좋다고 볼 수 있는 건가요? [1] 24295
248 Sputtering 중 VDC가 갑자기 변화하는 이유는 무엇인가요? 15881
247 Ar fraction에 따른 Plasma 특성 질문입니다. [1] 15790
246 remote plasma에 대해 설명좀 부탁드립니다. [1] 21983
245 cross section 질문 [1] 19668
244 [Sputter Forward,Reflect Power] [1] 29237

Boards


XE Login