현장 정보가 부족해서 장치 활용 현황에 대한 정보를 드리기 어려운 입장입니다. 혹시 다른 분들께서 도움을 주셨으면 합니다.
RF 플라즈마를 이해할 때 가장 먼저 고려하는 것은 주파수에 따른 파장의 길이 변화입니다. 주파수가 크면 rf 전력의 plasma coupling 효과가 좋아지므로 고주파를 사용하게 됩니다. 현실적으로 사용하는 RF 소스 중에 마이크로 웨이브, 특히 2.45GHz는 가장 높은 주파수에 해당합니다. 이 조건에서 파장의 크기는 약 12cm 정도로써 가열 효과는 좋으나 넓은 면적으로 처리하는 장치를 만들기는 어려운 조건이 됩니다. 따라서 생성되는 플라즈마를 넓게 퍼트리는 기술을 같이 개발하는 연구가 장치 개발과 관련해서 진행되고 있습니다. 또하나의 특징은 power coupling이 좋으므로 공정가스의 해리율이 매우 높은 소스에 해당됩니다. 하지만 이는 특정 공정에서 득이되거나 해가 될 수 있어서 오히려 조절 윈도우가 좁아지는 문제를 야기하곤 합니다. 이는 기본적으로 이 소스가 갖게 되는 특징이니 참고하여 장치를 수배하시면 좋을 것 같습니다.