Others CCP/ICP에서 자석의 역활에 대하여

2004.06.25 12:45

관리자 조회 수:19341 추천:286

질문 ::

ICP 장비들을 공부하다 보니까.
일부 특허등에서 전류를 인가하는 coil 이외에 자석을 챔버 주위에 둘르는 것을 보곤 합니다.
이때 자석들이 무슨 기능을 하는지 알고 싶습니다.

ICP 의 경우 코일에 인가되는 전류에 의한 자기장이 챔버 내부에 형성되고 그에 따른 유도 전기장에 의하여 플라즈마를 발생시키게 되는데, 이때 자석이 놓으므로 해서 자기장에 어떤 효과를 주게 되는 지 알고 싶습니다.

ps. ICP의 경우 코일에 의한 자기장이 챔버중심까지 침투하는 건가요? 아니면 skin depth 이외에는 침투 하지 못하는 건지 알고 싶습니다.
만약 그렇다면 13.56MHz를 사용하는 일반적인 ICP 장비의 경우 skin depth가 어느정도 인지 알고 싶습니다.

답변 ::

ICP에 관한 내용은 이곳에 수차례 설명되어 있으니 꼭 참고하시기 바랍니다.
또한 자기장의 역할에 대해서도 이미 언급되어 있습니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [266] 76677
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20149
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57150
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68672
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92181
244 Ar fraction에 따른 Plasma 특성 질문입니다. [1] 15801
243 remote plasma에 대해 설명좀 부탁드립니다. [1] 22105
242 cross section 질문 [1] 19707
241 [Sputter Forward,Reflect Power] [1] 29258
240 RF Power에 따라 전자온도가 증가하는 경우에 대하여 궁금합니다. [1] 17689
239 ICP 플라즈마 매칭 문의 [2] 21185
238 ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의 [1] 24743
237 [질문] Plasma density 측정 방법 [1] 22692
236 [질문] 석영 parts로인한 특성 이상 [1] 19833
235 상압 플라즈마 방전에 관한 문의 [1] 20310
234 RF Plasma(PECVD) 관련 질문드립니다. 31659
233 [질문] ICP plasma 를 이용하여 증착에 사용하고 있는데요. [3] 24299
232 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 23329
231 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. 22939
230 대기압 플라즈마 40701
229 반도체 관련 질문입니다. 28577
228 안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다. [1] 47801

Boards


XE Login