Plasma in general standing wave effect에 대한 질문이 있습니다.
2021.11.18 11:00
교수님 안녕하세요. 디스플레이 장비사에서 근무중인 회사원입니다.
좋은 내용 정말 감사합니다. 많이 배우고 있습니다.
PECVD의 챔버와 standing wave effect에 관한 질문입니다.
챔버의 크기가 클수록 standing wave effect에 의해 챔버 내의 플라즈마가 불균일 하게 형성되어 불균일한 필름이 증착되는 것으로 알고있습니다.
'용량결합형 전극에서 가이드링에 의한 전기장 제어' 논문(http://doi.org/10.5370/KIEE.2019.68.11.1465)의 2.1 전기장 불균일도 원인 내용에서 'Wave는 전도체 표면을 따라 전극 아래 중앙부로 이동한다. 이 현상은 축대칭으로 인해 전극 중앙 하부에서 축방향 전기정은 radial 방향으로 미분 값이 0이 되어야 한다. 따라서 전극 아래 중앙부에서는 시간에 따른 전기장이 가장 크거나 가장 작다.'
라고 설명이 나와있습니다.
제가 드리고 싶은 질문은 wave가 중앙부에서 가장 강한지 궁금합니다. 또한 중심부에서 가장 큰 전기장이 형성 되더라도 전기장 에너지가 플라즈마 내부에서 확산되기 때문에 챔버 전체적으로 동일한 플라즈마 밀도를 가져야 하는것 아닌지가 궁금합니다.
감사합니다.
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] | 76539 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20076 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57115 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68613 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 91695 |
243 | 대학원 진학 질문 있습니다. [2] | 1146 |
242 | 쉬쓰 천이지역에 관한 질문입니다. [1] | 1145 |
241 | 산소 플라즈마 처리 관하여 질문드립니다. [1] | 1143 |
240 | Uniformity 관련하여 문의드립니다. [1] | 1141 |
239 | 공정플라즈마 [1] | 1136 |
238 | Group Delay 문의드립니다. [1] | 1134 |
237 | 안녕하세요 텅스텐 에치에 대해 질문드리겠습니다. | 1133 |
236 | 자기 거울에 관하여 | 1130 |
235 | 플라즈마 주파수 예측관련 질문드립니다 [1] | 1122 |
234 | RPSC 시 Pressure와 Throttle Valve Position의 관계 [1] | 1122 |
233 | Plasma Ignition 시 Gas 사용에 대한 궁금증 요청드립니다. [1] | 1119 |
232 | wafer bias [1] | 1119 |
231 | 반도체 관련 플라즈마 실험 [1] | 1118 |
230 | PECVD Cleaning에서 Ar Gas의 역활 [1] | 1113 |
229 | Vacuum Chamber(Etching) 내에서 열의 이동과 Byproduct 이동과의 관계. [2] | 1107 |
228 | MFP와 Sheath 관련하여 추가 질문 드립니다. [1] | 1101 |
227 | RF 반사파와 이물과의 관계 [1] | 1099 |
226 | 전자 온도 구하기 [1] | 1098 |
225 | 식각 가스 사용 챔버의 잔류 flourine cleaning 혹은 conditioning 방법 질문 [1] | 1088 |
224 | 엘립소미터 측정관련해서 질문이 있습니다. [1] | 1078 |