질문하실 때 실명을 사용하여주세요.

2010.11.25 15:38

관리자 조회 수:92274 추천:380

플라즈마에 관심있으신 모든 분이 활용하고 플라즈마의 지식을 공유할수 있는 공간을 제공한다라는 원칙을 갖고 있습니다. 따라서 의견을 개진 하실 때는 자신의 이름을 분명히 밝혀주셔야 합니다. 그럼으로써 서로 알고 있는 플라즈마의 지식을 자유롭게 공유할 수 있을 것 입니다. 이 사항을 협조하여 주지기 바랍니다. 본인의 이름을 밝히지 않는 사람의 의견은 일주일 이내에 내용이 삭제됩니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] 76726
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20172
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57166
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68696
» 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92274
246 ICP dry etch 장비에서 skin depth가 클수록 좋다고 볼 수 있는 건가요? [1] 24331
245 Sputtering 중 VDC가 갑자기 변화하는 이유는 무엇인가요? 15885
244 Ar fraction에 따른 Plasma 특성 질문입니다. [1] 15802
243 remote plasma에 대해 설명좀 부탁드립니다. [1] 22116
242 cross section 질문 [1] 19711
241 [Sputter Forward,Reflect Power] [1] 29261
240 RF Power에 따라 전자온도가 증가하는 경우에 대하여 궁금합니다. [1] 17695
239 ICP 플라즈마 매칭 문의 [2] 21191
238 ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의 [1] 24747
237 [질문] Plasma density 측정 방법 [1] 22694
236 [질문] 석영 parts로인한 특성 이상 [1] 19835
235 상압 플라즈마 방전에 관한 문의 [1] 20311
234 RF Plasma(PECVD) 관련 질문드립니다. 31664
233 [질문] ICP plasma 를 이용하여 증착에 사용하고 있는데요. [3] 24307
232 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 23332
231 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. 22941
230 대기압 플라즈마 40706

Boards


XE Login