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[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
| 22003 |
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개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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284 |
RF Generator 주파주에 따른 Matcher Vms 변화 [주파수에 따른 임피던스 변화]
[1] | 1372 |
283 |
micro plasma에 사용되는 전력을 알고 싶습니다. [Wave guide 설계 및 matcher 설계]
[1] | 1371 |
282 |
SI 표면에 Ar Plasma Etching 하면 안되는 이유 [표면 전처리]
[1] | 1369 |
281 |
MFP와 Sheath 관련하여 추가 질문 드립니다. [Collisional sheath 정의]
[1] | 1367 |
280 |
잔류시간 Residence Time에 대해 [표면 유속 정보, 유체해석 코드]
[1] | 1358 |
279 |
Uniformity 관련하여 문의드립니다. [베르누이 정리]
[1] | 1355 |
278 |
플라즈마의 직진성에 관해 질문드립니다. [PMI]
[2] | 1353 |
277 |
식각 가스 사용 챔버의 잔류 flourine cleaning 혹은 conditioning 방법 질문 [O2 plasma, ion sputtering]
[1] | 1340 |
276 |
전자 온도 구하기 [쉬스 전압, 스퍼터링 효과]
[1] | 1338 |
275 |
엘립소미터 측정관련해서 질문이 있습니다. [나노광전자 데이터 분석]
[1] | 1326 |
274 |
ICP, CCP 그리고 Ion Implantation 공정 관련 질문 드립니다. [플라즈마 방전 및 이온 가속]
[1] | 1325 |
273 |
etch defect 관련 질문드립니다 [Plasma distribution]
[1] | 1312 |
272 |
챔버 임피던스 변화에 따른 공정변화 [Chamber impedance와 공정 드리프트 진단 인자]
[1] | 1307 |
271 |
산소 플라즈마 처리 관하여 질문드립니다. [DBD]
[1] | 1303 |
270 |
wafer bias [Self bias]
[1] | 1289 |
269 |
RF 반사파와 이물과의 관계 [Physical/chemical cleaning]
[1] | 1285 |
268 |
공정플라즈마 [플라즈마 입자 거동 및 유체 방정식]
[1] | 1285 |
267 |
대학원 진학 질문 있습니다. [전공 설계]
[2] | 1276 |
266 |
쉬쓰 천이지역에 관한 질문입니다. [Ambipolar diffusion]
[1] | 1267 |
265 |
Vacuum chamber(Etching)내에서 열의 이동과 Byproduct 이동과의 관계 [Plasma bulk Temp와 wall Temp]
[2] | 1265 |