Others ICP 후 변색 질문

2018.01.23 19:11

Wafer 조회 수:575

안녕하십니까.

현재 반도체 회사에서 근무하고 있습니다.

ICP 공정 중 일어나는 Sapphire wafer (Al2O3) 변색 관련 질문 드립니다.

BCl3 gas를 이용한  ICP 진행 중 간간히 wafer가 옅은 노란색을 띄는 황변이 발생하고 있고.

황변 발생 wafer는 재열처리로 황변을 제거 하고 있습니다. (가끔 황변이 제거 안되는 경우도 있습니다.)

이와 관련.  

1. Oxygen의 숫자 부족

2. Al3 + vacancy 과도의 이유로 추정하고 있습니다.

Ingot 자체의 물성(?)이 원인이라고 파악하고 있는데.

혹시, ICP 진행 중 어떠한 화학반응에 의해 황변이 발생할 가능성이 있는지요.

어떠한 내용이라도 좋습니다.

위 황변 내용과 관련하여 다른 의견이나 지식을 얻고 싶습니다.

ICP 진행 중 wafer 황변 발생의 원인과 그에 따른 해결 방안 혹은 점검 내용이 있다면 알려주시길 부탁드립니다.


번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [113] 4916
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 16260
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 51250
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 63764
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [2] 83575
119 CVD 막질의 성질에 대해 질문드립니다. [1] 619
118 매쳐 출력값 검토 부탁 드립니다. [1] 612
117 Uniformity 관련하여 문의드립니다. [1] 605
116 RF 반사파와 이물과의 관계 [1] 605
115 plasma 형성 관계 [1] 600
114 ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다!! [1] 591
113 Collisional mean free path 문의... [1] 589
112 식각 가스 사용 챔버의 잔류 flourine cleaning 혹은 conditioning 방법 질문 [1] 584
» ICP 후 변색 질문 575
110 코로나 전류에 따른 발생되는 이온의 수와, 하전에 영향을 미치는 요소에 대해서 질문드립니다 [1] 573
109 O2 Asher o-ring 문의드립니다. [1] 560
108 플라즈마 절단시 C와 N의 결합가능성 [2] 558
107 안녕하세요. 플라즈마 기체분자종에 따른 기판charing정도차이 문의 [1] 557
106 전자 온도 구하기 [1] file 556
105 플라즈마용사코팅에서의 carrier gas [1] 543
104 안녕하세요 플라즈마의 원초적인 개념에서 궁금한 점이 생겨서 질문드립니다. [1] 542
103 교수님 질문이 있습니다. [1] 541
102 연면거리에 대해 궁금합니다. [1] 535
101 공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 어떤 이유들이 있을까요..? [2] 533
100 ECR ion source에서 plasma가 켜지면 RF reflect가 심해집니다. [2] 532

Boards


XE Login