1. Noise 문제는 RF ground 문제에서 야기되는 것 같습니다. RF grounding은 쉽지 않으며 글로도 쉽게 설명하기 어렵습니다만 일단 power line및 탐침 line의 shielding을 신경쓰고 load부분의 ground가 철저한가를 확인하기 바랍니다.

2. 탐침에 의한 식각 플라즈마의 진단 결과의 해석은 쉽지 않습니다. 탐침의 값이 무슨 의미인가를 찾아내기가 쉽지 않다는 말입니다. 일단 Ar 플라즈마와 Cl2 플라즈마는 그 성격이 매우 다릅니다. Ar 플라즈마는 탐침에 큰 손상을 미치지 않습니다만 Cl은 탐침팁의 corrosion을 야기시킵니다. 따라서 탐침을 sweeping을 하는 동안 Cl2 플라즈마 내에서 탐침 팁의 표면적은 계속 줄어들고 있을 것 입니다. 이는 측정 시간에 따라 같은 조건에서라도 탐침 전류 밀도가 줄어드는 경향을 보이게 됩니다. 이런 점을 보완하기 위해서 injection probe를 사용하기도 합니다. 순간적으로 탐침을 반응기 내에 넣었다가 빼면서 측정하는 방법입니다. 혹은 Cl 플라즈마는 Ar 플라즈마와 달리 음이온을 많이 발생합니다. 대부분의 7족 개스들의 전자 친화력이 좋아 쉽게 음이온으로 전환되는 경향이 있습니다. 이 음이온 발생은 power와 gas pressure에 함수가 됩니다. (저희 실험실 결과) 따라서 운전 압력이 높아지면 더 많은 음이온이 발생하고 특정 압력과 power에서 peak를 갖게 됩니다. (현재 저희 실험실에서ㅡㄴ Cl에 대한 자료는 없고 산소에 대한 자료는 저희가 얻어가고 있습니다. 곧  Cl에 관한 연구를 진행할 예정입니다.) 음이온의 발생은 대부분 전자의 흡착으로 형성되게 됨으로 음이온이 많이 발생하게 되면 플라즈마 내의 전자의 수는 상대적으로 줄어들게 되고 탐침의 전자 전류도 같이 줄어들게 됩니다. 이런 이유로 전자 전류로 부터 플라즈마 밀도를 분석하고 있다면 음이온 발생에 따라서 플라즈마 밀도가 작게 관찰될 수도 있습니다. 이 경우 이온 전류로 부터 플라즈마 밀도를 관찰하는 방법이 좋습니다.
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [60] 1499
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 2081
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 49509
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 59713
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [1] 75537
83 Edge ring과 플라즈마 밀도 균일성 [1] 395
82 ECR ion source에서 plasma가 켜지면 RF reflect가 심해집니다. [2] 392
81 CCP에서 전극에 쌓이는 막질에 의한 Capacitance 변화가 궁금합니다 [1] 391
80 Frequnecy에 따라 플라즈마 영역이 달라질까요? [1] 387
79 전자 온도에 대한 질문이 있습니다. [1] 385
78 O2 Asher o-ring 문의드립니다. [1] 385
77 연면거리에 대해 궁금합니다. [1] 382
76 플라즈마 절단시 C와 N의 결합가능성 [2] 380
75 매칭시 Shunt와 Series 값 [1] 376
74 해수에서 플라즈마 방전 극대화 방안 [1] file 376
73 Ion과 Radical의 이동 거리 및 거리에 따른 농도와 증착 품질 관련 [1] 374
72 알고싶습니다 [1] 367
71 RPC CLEAN 시 THD 발생 [1] 367
70 analog tuner관련해서 질문드립니다. [1] 365
69 Si Wafer에 Plasma를 처리했을때 정전기 발생 [1] 362
68 전자기장 및 유체 시뮬레이션 관련 [1] 361
67 RF magnetron sputtering시 플라즈마 off현상 [1] 357
66 RF 반사파와 이물과의 관계 [1] 356
65 활성이온 측정 방법 [1] 355
64 프리쉬스에 관한 질문입니다. [1] 353

Boards


XE Login