Sheath CCP 에서 Area effect(면적) ?

2004.06.21 15:49

관리자 조회 수:21384 추천:331

질문 ::

안녕하세요
며칠 전에 교수님에게 교육을 받고 궁금한 것이 있어 멜을 보냅니다.

self_bias 를 만들기 위해서 blocking capacitor 와 전극의 면적크기를 달리하는 데, 면적의 크기를 달리 하면 왜 Self-bais 가 향상되죠?

답변 ::

Self bias에 관한 이전의 설명을 참조하시기 바랍니다.

단, blocking capacitor와 전극의 면적이 크기를 달리한다고 생각하였는데 blocking capacitor의 역할은
반응기의 electrode와 연결된 power supply에 높은 직류 전류가 흐르는 것을 막기위한 안전장치로써
electrode와 직렬 연결되어 있는 capacitor를 의미하며, 이 capacitor는 또한 DC 전류를 block함으로써
capacitor와 연결되어 있는 electrode의 전위를 음으로 shift시키게 됩니다 (self bias). 또한 electrode 의 전극의 크기가
bias 전위의 크기에 영향을 주는 이유는 이 전극이 플라즈마와 직렬로 연결되어 있음으로 플라즈마와 전극 사이에  
형성되어 있는 sheath 영역의 capacitance의 크기가 변하기 때문입니다. 일반적으로 면적이 넓어지면 capacitance는 커지나
전류의 크기가 같아하고 (직렬회로) 따라서 같은 시간동안 하전되는 전하량은 전극의 크기에 상관없이 같아야 할 것입니다.
따라서 C가 큰 곳에는 voltage drop이 작아야 하며 C가 작은 곳에서는 V가 크게 되고 이 C는 전극의 크기, V는 sheath potential
즉 플라즈마에서 전극으로 전위가 강하되는 값을 나타냅니다. 따라서 크기가 작은 전극 앞에서의 전위변화가 매우
크게 나타나게 되는 것 입니다.  

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] 76713
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20170
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57164
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68694
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92269
228 안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다. [1] 47822
227 Sputter 시에 Gas Reaction 에 대해 문의 드립니다. 20203
226 플라즈마로 처리가 어떻게 가능한지 궁금합니다. [1] 16035
225 H2/O2 혼합 플라즈마에 관련 질문 입니다. [2] 19415
224 [re] H2/O2 혼합 플라즈마에 관련 질문에 대한 답변 드립니다. file 29988
223 [re] H2/O2 혼합 플라즈마에 관련 질문 입니다. 17191
222 ECR plasma 장비관련 질문입니다. [2] 34955
221 질문 있습니다. [1] 18368
220 pulse plasma 측정을 위한 Langmuir probe 사용 방법 관련.. [1] 22618
219 스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요? 25581
218 플라즈마 진단법에 대하여 [1] 20575
217 안녕하세요. GS플라텍 지성훈입니다. [1] 20259
216 UBM 스퍼터링 장비로... [1] 20902
215 Reflrectance power가 너무 큽니다. [1] 24850
214 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 24575
213 플라즈마 챔버 의 임피던스 관련 [2] 27208
212 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 41235
211 광플라즈마(Photoplasma)라는 것이 있는가요? 23381
210 석영이 사용되는 이유? [1] 20019
209 surface wave plasma 에 대해서 [1] 18542

Boards


XE Login