Matcher RF Antena와 Matcher 間 상관관계 문의드립니다.

2022.04.19 11:40

맨시티챔스우승 조회 수:1008

안녕하세요

측정장비 분야에서 일하고 있는 연구 엔지니어입니다.

 

ICP(13.56MHz) 이용해 플라즈마 띄우고 Standard L-type Matching Network 사용중입니다.

Matcher에 대해 어느정도 이론은 이해했다고 생각했는데 현실은 다르네요.

 

안테나와 Matcher 間 거리, 안테나의 길이, Clamp로 엮는 위치 등등 모든게 변수가 되는 것 같습니다...

이러한 이유로 Plasma를 띄운 후 Current 값이 계속해서 안정적이지 못하고 뛰는 것 같은데 혹시 이러한 값들도 영향을 미치나요?

 

혹시 최선의 값을 알고 계신다면 알려주시면 진심으로 감사하겠습니다.

바쁘신 연구 와중에도 항상 저희에게 도움을 주셔서 감사합니다.

 

, , 이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] 76722
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20172
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57165
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68696
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92273
748 center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 2 394
747 center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 [1] 749
746 RF Frequency 가변과 FORWARD POWER의 상관관계 [2] 737
745 안녕하세요, RPS나 DEPOSITION간에 발생하는 ELECTRON TEMPERATURE가 궁금합니다. [1] 373
744 RIE Gas 질문 하나 드려도될까요? [1] 315
743 RIE 설비 관련 질문 좀 드려도 될까요? [1] 290
742 안녕하세요. 자문을 구할 수 있을지 궁금합니다. [1] file 504
741 CURRENT PATH로 인한 아킹 [1] file 390
740 플라즈마 전원 공급장치에 대한 질문 [1] 477
739 주파수 증가시 플라즈마 밀도 증가 [1] 675
738 remote plasma 를 이용한 SiO2 etching 질문드립니다. [1] 485
737 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] 420
736 RF sputter 증착 문제 질문드립니다. [1] file 310
735 plasma off시 일어나는 현상 문의드립니다 [1] 344
734 Arcing 과 Self-DC Bias Voltage 상관 관계 [1] 559
733 RF 스퍼터 관련 질문이 있습니다. [1] 250
732 반사파와 유,무효전력 관련 질문 [2] 348
731 GWP(Global warming potential)에 따른 Etch gas 변화에 대한 질문 [1] 214
730 N2 GAS를 이용한 Plasma에 대한 질문 [1] 598
729 Plasma 표면개질에 대해 질문드립니다. [1] 509
쓰기
태그

Boards

XE Login