Plasma in general 플라즈마에 관해 질문 있습니다!!
2018.04.12 21:14
1. 광전리에 의한 플라즈마의 생성에 관해서 궁금합니다.
2. hwp 플라즈마란 무엇이며 특징에 대해서 궁금합니다!
댓글 0
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [266] | 76692 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20152 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57159 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68680 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92218 |
747 | 플라즈마 온도 | 27772 |
746 | DBD란 | 27716 |
745 | 플라즈마 상태와 RF MATCHING관계 문의 사항 | 27606 |
744 | 플라즈마 챔버 의 임피던스 관련 [2] | 27208 |
743 | 이온과 라디칼의 농도 | 26989 |
742 | self bias (rf 전압 강하) | 26702 |
741 | 공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제... [2] | 26463 |
740 | dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐 [3] | 26178 |
739 | 충돌단면적에 관하여 [2] | 26153 |
738 | OES 원리에 대해 궁금합니다! [1] | 26097 |
737 | 스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요? | 25581 |
736 | PECVD 매칭시 Reflect Power 증가 [2] | 24982 |
735 | 스퍼터링에서 DC bias의 감소 원인이 궁금합니다.. | 24870 |
734 | Reflrectance power가 너무 큽니다. [1] | 24846 |
733 | RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [1] | 24772 |
732 | ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의 [1] | 24745 |
731 | H2/O2 플라즈마에 대해서 질문드립니다. 꼭 답변점... [1] | 24641 |
730 | plasma와 arc의 차이는? | 24632 |
729 | 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. | 24559 |
728 | 플라즈마가 불안정한대요.. | 24515 |