안녕하세요 반도체 회사에 근무하고 있는 회사원입니다.

RF Power 를 이용하여 Film을 Deposition 하는 부서에 있는데요,

주요 관리 항목 중에 RF Vpp 항목이 있습니다.

RF Vpp 관련해서 문의드릴게 있습니다.


1. Ti Film을 RF Power를 이용하여 Dep하는데, Chamber 내부에 Ti Film이 더 많이 Depo 되면 RF Vpp는 조금씩

    떨어지는데 왜 그런건지 알 수 있을까요?

    업체에서는 Vpp와 Vdc가 반비례 관계여서 Vpp는 떨어지고, Vdc가 올라가게 된다고 하는데

    실상은 Vpp와 Vdc는 모두 떨어지는 Trend를 보이고 있습니다.


2. 두 번째로 Chamber의 RF Ground 역할을 하는 Stage Heater를 교체했는데,

    이전보다 RF Vpp Level이 떨어졌습니다. 무슨 연유에서 그런건지 모르겠는데 Ground가 바뀐 것만으로도 Vpp가 떨어질 수 있을까요?


설명이 부족하지만 도움 부탁드리겠습니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76543
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20078
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57116
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68615
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91697
232 RF 전압과 압력의 영향? [1] 1635
231 Plasma Cleaning 관련 문의 [1] 1320
230 standing wave effect에 대한 질문이 있습니다. [1] 1564
229 안녕하세요 DBD 플라즈마 소독 관련질문입니다. [1] 445
228 ICP와 CCP는 단순히 플라즈마를 생서하는 방법인가요? [1] 8660
227 CVD 막질의 성질에 대해 질문드립니다. [1] 1309
226 전자 온도에 대한 질문이 있습니다. [1] 999
225 데포 중 RF VDC DROP 현상 [1] 1520
224 플라즈마를 통한 정전기 제거관련. [1] 698
223 CVD (CCP) 공정의 Chamber seasoning과 플라즈마 밀도 [1] 1950
222 LF Power에의한 Ion Bombardment [2] 1947
221 전자 온도 구하기 [1] file 1099
220 공정 진행 중 의도적인 섭동 효과에 대해서 질문 드립니다. [1] 313
219 CVD 공정에서의 self bias [1] 3034
218 잔류시간 Residence Time에 대해 [1] 1062
217 공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 답변 정말 감사합니다! 1855
216 공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 어떤 이유들이 있을까요..? [2] 1054
215 Edge ring과 플라즈마 밀도 균일성 [1] 1690
214 RF Power와 균일도 연관성 질문드립니다. [2] 3227
213 구 대칭으로 편광된 전자기파를 조사할 때에 대한 질문입니다. [1] file 223

Boards


XE Login