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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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N2, N2O Gas 사용시 Plasma 차이점 [N2 Plasma]
[1] | 1658 |
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연속 Plasma시 예상되는 문제와 횟수를 제한할 경우의 판단 기준 [Plasma information과 monitoring]
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ICP Dry Etch 진행시 정전기 발생에 관한 질문입니다. [국부 전기장 형성 및 edge 세정]
[1] | 941 |
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Tungsten 표면 Contamination 제거(실명재등록) [Atmostpheric pressure plasma jet]
[1] | 1032 |
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plasma 형성 관계 [Paschen's law, 플라즈마 주파수]
[1] | 1706 |
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ICP 대기압 플라즈마 분석 [Collisional plasma, LTE 모델]
[1] | 795 |
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RF 주파수와 공정 Chamber 크기의 상관관계 [Standing wave effect]
[1] | 2553 |
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CCP 구조가 ICP 구조보다 Arcing 발생에 더 취약한가요? [Breakdown 전기장, 아크 방전]
[3] | 3743 |
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RF 전류가 흐르는 Shower head를 TC로 온도 측정 할 때 [TC gauge 동작 원리]
[1] | 962 |
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CCP plasma에서 gap과 Pressure간의 상관관계 [Paschen's Law, P-d 방전 곡선]
[1] | 2444 |
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anode sheath 질문드립니다. [Sheath 형성 메커니즘]
[1] | 1130 |
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라디컬의 재결합 방지 [해리 반응상수]
[1] | 909 |
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PECVD와 RIE의 경계에 대해 [DC bias 형성 판단]
[1] | 1661 |
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PP & PET 친수성과 접착성 유지 질문입니다. [소수/친수성 조절 연구]
[1] | 3388 |
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CCP에서 접지된 전극에 기판을 놓았을 때 반응 [Self bias]
[1] | 1115 |
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플라즈마 챔버 [화학반응 및 내열조건]
[2] | 1383 |
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안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [Faraday shield]
[1] | 1755 |
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ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다. [He 혼합비와 플라즈마 밀도]
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Plasma arcing 관련하여 문의드립니다. [플라즈마 내 전자 축적]
[1] | 1539 |
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ECR ion source에서 plasma가 켜지면 RF reflect가 심해집니다. [ECRiS]
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