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[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[158]
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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안녕하세요. O2 plasma etching에 대해 궁금한 것이 있습니다.
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ICP-RIE process 및 plasma에 대해 질문있습니다.
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Gas flow rate에 따른 etch rate의 변화가 궁금합니다.
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전자기장 및 유체 시뮬레이션 관련
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압력, 유량과 residence time에 대해 질문있습니다.
[1] | 1301 |
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PECVD Precursor 별 Arcing 원인
[1] | 2086 |
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109 |
ICP, CCP 그리고 Ion Implantation 공정 관련 질문 드립니다.
[1] | 938 |
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108 |
HF/F2와 silica 글래스 에칭율 자료가 있을까요?
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107 |
PEALD관련 질문
[1] | 22106 |
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106 |
Plasma Etching 교재 추천 부탁드립니다..
[3] | 894 |
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105 |
기판 위에서 Radical의 운동역학에 관하여 질문드립니다.
[2] | 549 |
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104 |
식각 시 나타나는 micro-trench 문제
[1] | 1557 |
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103 |
PECVD 증착에서 etching 관계
[1] | 1119 |
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102 |
터보펌프 에러관련
[1] | 1559 |
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101 |
부가적인 스퍼터링 관련 질문 드립니다.
[1] | 988 |
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100 |
산소양이온의 금속 전극 충돌 현상
[1] | 2482 |
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[CVD] 막 증착 관련 질문입니다.
[4] | 1081 |
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magnetic substrate와 플라즈마 거동
[3] | 383 |
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Pecvd 장비 공정 질문
[1] | 1233 |
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DRY Etcher Alram : He Flow 관점 문의 드립니다.
[1] | 1658 |
