Etch 식각 시 나타나는 micro-trench 문제

2019.03.28 15:12

안골 조회 수:1757

안녕하세요? 식각에 관해 공부하고 있는 대학원생입니다.


요즘 plasma etching 에 관한 리뷰를 보는 중 식각 시 나타나는 etch profile의 distortion에 관해서 써놓은 내용을 보았습니다.

특히, Si 공정 중 micro-trench 현상이 일어나고, 그대로 소자가 만들어 졌을 때에 소자 상에서 어떤 문제가 일어나는지 궁금합니다. 

리뷰에 달린 참고문헌을 봐도 distortion에 대한 메커니즘만 설명되어 있고, 실제 소자상에서는 어떤 문제가 있는지 다뤄지지가 않아 너무 궁금합니다...

혹시 이에 대한 문헌이나, 참고할만한 자료가 있으면 답변 부탁드리겠습니다.

감사합니다.


참고한 문헌 : Donnelly, V. M., & Kornblit, A. (2013). Plasma etching: Yesterday, today, and tomorrow. Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films, 31(5), 050825.

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [235] 75788
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 19473
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 56680
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68068
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 90361
134 Sticking coefficient 관련 질문입니다. [1] new 805
133 O2 Asher o-ring 문의드립니다. [1] new 822
132 etch defect 관련 질문드립니다 [1] new 899
131 Ashing 공정에 필요한 O2 plasma에 대해 궁금한 점이 있습니다. [1] new 907
130 RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [1] new 941
129 Vacuum Chamber(Etching) 내에서 열의 이동과 Byproduct 이동과의 관계. [2] new 980
128 식각 가스 사용 챔버의 잔류 flourine cleaning 혹은 conditioning 방법 질문 [1] new 984
127 엘립소미터 측정관련해서 질문이 있습니다. [1] new 996
126 Plasma Etching 교재 추천 부탁드립니다.. [3] new 1008
125 Dechucking과 He gas의 관계 질문입니다. [1] new 1013
124 Uniformity 관련하여 문의드립니다. [1] new 1049
123 O2 etch 후 polymer 변성에 관한 문의 newfile 1076
122 안녕하세요 텅스텐 에치에 대해 질문드리겠습니다. new 1099
121 ICP, CCP 그리고 Ion Implantation 공정 관련 질문 드립니다. [1] new 1100
120 텅스텐 Etch 관련하여 질문드립니다. [1] new 1102
119 챔버 임피던스 변화에 따른 공정변화 [1] new 1111
118 Plasma etch관련 질문이 드립니다. [1] new 1168
117 [CVD] 막 증착 관련 질문입니다. [4] new 1228
116 Matcher의 효율에 대한 내용에 대해서 궁금합니다. [1] new 1255
115 부가적인 스퍼터링 관련 질문 드립니다. [1] new 1263
쓰기
태그

Boards

XE Login