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번호 | 제목 | 조회 수 |
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공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] | 76714 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20170 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57164 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68695 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92273 |
748 | 플라즈마 온도 | 27779 |
747 | DBD란 | 27719 |
746 | 플라즈마 상태와 RF MATCHING관계 문의 사항 | 27616 |
745 | 플라즈마 챔버 의 임피던스 관련 [2] | 27209 |
744 | 이온과 라디칼의 농도 | 26995 |
743 | self bias (rf 전압 강하) | 26711 |
742 | 공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제... [2] | 26467 |
741 | dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐 [3] | 26183 |
740 | 충돌단면적에 관하여 [2] | 26159 |
739 | OES 원리에 대해 궁금합니다! [1] | 26116 |
738 | 스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요? | 25581 |
737 | PECVD 매칭시 Reflect Power 증가 [2] | 24987 |
736 | 스퍼터링에서 DC bias의 감소 원인이 궁금합니다.. | 24872 |
735 | Reflrectance power가 너무 큽니다. [1] | 24851 |
734 | RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [1] | 24772 |
733 | ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의 [1] | 24747 |
732 | plasma와 arc의 차이는? | 24656 |
731 | H2/O2 플라즈마에 대해서 질문드립니다. 꼭 답변점... [1] | 24644 |
730 | 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. | 24579 |
729 | 플라즈마가 불안정한대요.. | 24516 |