Etch 식각 시 나타나는 micro-trench 문제

2019.03.28 15:12

안골 조회 수:1981

안녕하세요? 식각에 관해 공부하고 있는 대학원생입니다.


요즘 plasma etching 에 관한 리뷰를 보는 중 식각 시 나타나는 etch profile의 distortion에 관해서 써놓은 내용을 보았습니다.

특히, Si 공정 중 micro-trench 현상이 일어나고, 그대로 소자가 만들어 졌을 때에 소자 상에서 어떤 문제가 일어나는지 궁금합니다. 

리뷰에 달린 참고문헌을 봐도 distortion에 대한 메커니즘만 설명되어 있고, 실제 소자상에서는 어떤 문제가 있는지 다뤄지지가 않아 너무 궁금합니다...

혹시 이에 대한 문헌이나, 참고할만한 자료가 있으면 답변 부탁드리겠습니다.

감사합니다.


참고한 문헌 : Donnelly, V. M., & Kornblit, A. (2013). Plasma etching: Yesterday, today, and tomorrow. Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films, 31(5), 050825.

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] 76714
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20170
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57164
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68695
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92273
748 center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 2 394
747 center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 [1] 748
746 RF Frequency 가변과 FORWARD POWER의 상관관계 [2] 737
745 안녕하세요, RPS나 DEPOSITION간에 발생하는 ELECTRON TEMPERATURE가 궁금합니다. [1] 373
744 RIE Gas 질문 하나 드려도될까요? [1] 315
743 RIE 설비 관련 질문 좀 드려도 될까요? [1] 290
742 안녕하세요. 자문을 구할 수 있을지 궁금합니다. [1] file 504
741 CURRENT PATH로 인한 아킹 [1] file 390
740 플라즈마 전원 공급장치에 대한 질문 [1] 477
739 주파수 증가시 플라즈마 밀도 증가 [1] 675
738 remote plasma 를 이용한 SiO2 etching 질문드립니다. [1] 485
737 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] 420
736 RF sputter 증착 문제 질문드립니다. [1] file 310
735 plasma off시 일어나는 현상 문의드립니다 [1] 344
734 Arcing 과 Self-DC Bias Voltage 상관 관계 [1] 559
733 RF 스퍼터 관련 질문이 있습니다. [1] 250
732 반사파와 유,무효전력 관련 질문 [2] 348
731 GWP(Global warming potential)에 따른 Etch gas 변화에 대한 질문 [1] 214
730 N2 GAS를 이용한 Plasma에 대한 질문 [1] 598
729 Plasma 표면개질에 대해 질문드립니다. [1] 509
쓰기
태그

Boards

XE Login