안녕하세요

혼자 해결하려고 몇달을 고민하고 도전하다가, 비전공자의 한계를 극복하지 못하고 글 남깁니다..


고전압 진공관 관련해서 실험을 하고 있는 직장인입니다.


고전압 진공관을 작동할 때에, 진공관은 대기중(질소로 퍼징하지 않고)에서 펌프로 대략 10e-5 이상으로 진공을 유지하고 있습니다.

제가 알고 있는 지식선에서는 진공관에서 고전압을 인가 할 경우에는 어떠한 현상도 발생하지 않아야 합니다.


그런데, 고전압을 인가해주면 글로우 방전과 비슷하게 보라색과 분홍색이 섞인듯한 빛을 띄는 에너지 파?(글로 방전 예상)가 이동하는 것을 확인하였습니다. 그 이후 조금 더 높은 전압을 인가했을 때에는 에너지 파?가 아닌 단순히 형광등 처럼 빛(플라즈마 예상)이 나기만 했습니다.

이럴 경우에 진공이 안좋아서 전리 여기현상으로 글로방전 또는 플라즈마가 발생하는 것으로 예상됩니다.


하지만, 진공의 문제가 아니라 다른 문제가 있다고 판단하여 좀더 높은 전압을 인가하였을 때, 아크가 발생하면 빛이 사라지는 경우를 확인했습니다. 

이런 경우가 될 경우에는 빛이 발생하는 현상은 진공과 관계가 없다고 판단되고, 진공관 내 어떠한 표면이 불안정하여 플라즈마 현상의 원인이 되는 것으로 판단됩니다.. 


그러나, 그 진공관에서 전극 사이에 가장 가까운 거리를 가지는 것은 절연체 밖에 없습니다..

 

여기서 질문을 드리고자 하는 것은 아래와 같습니다.


1. 진공관에서 글로방전 또는 플라즈마가 발생하는 것을 진공만의 문제일 수 있을까요?

2. 진공관의 절연부분이 글로방전 또는 플라즈마 발생의 원인이 될 수 있을까요?

3. 진공관 내 이물질 흡착으로 인하여 고전압 인가 시에 글로방전 또는 플라즈마 발생하는 것의 원인이 될 수 있을까요?

4. 진공관 내 절연거리가 부족하여 글로방전 또는 플라즈마 발생의 원인이 될 수 있을까요?


제가 더 필요하게 알아봐야 할 부분이 있는 것으로 보이시면 논문이나 서적 추천 부탁드립니다..


글 읽어주셔서 감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 48630
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 50107
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [1] 55153
523 안녕하세요. O2 plasma etching에 대해 궁금한 것이 있습니다. [1] 535
522 산소 플라즈마 처리 관하여 질문드립니다. [1] 230
521 플라즈마의 직진성에 관해 질문드립니다. [2] 677
520 Deposition 진행 중 matcher(shunt,series) 관계 질문 [3] 584
519 ECR 플라즈마에 대해서 질문 드립니다. [1] 247
518 Plasma Dechuck Process가 궁금합니다. 11939
517 HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의 [1] 330
516 Vpp, Vdc 측정관련 문의 [1] 797
515 간단한 질문 몇개드립니다. [1] 189
514 matcher에서 load,tune의 역할이 궁금합니다. [1] 679
513 Si Wafer에 Plasma를 처리했을때 정전기 발생 [1] 225
512 Hollow Cathode glow Discharge 실험 관련해서 여쭤보고싶습니다. [1] file 182
511 에쳐장비HF/LF 그라운드 관련 [2] 2599
510 매쳐 출력값 검토 부탁 드립니다. [1] 293
509 ICP-RIE process 및 plasma에 대해 질문있습니다. [2] 530
508 진학으로 고민이 있습니다. [2] 436
507 플라즈마 형성시 하전입자의 밀도와 챔버에 관련해서 질문드립니다. [2] 352
506 Gas flow rate에 따른 etch rate의 변화가 궁금합니다. [1] 632
505 전자기장 및 유체 시뮬레이션 관련 [1] 205
504 ICP reflecot power 관련 질문드립니다. [1] 413

Boards


XE Login