Matcher 임피던스 매칭회로

2019.10.27 17:51

sungsustation 조회 수:1265

안녕하십니까 교수님. 플라즈마를 공부하면서 생긴 궁금증으로 인해 질문드립니다.


아래 첨부된 그림파일과 같은 회로에서 임피던스 매칭 회로의 구동원리는 어떻게 되는지요?

임피던스 매처에서  만약 X<0인 capacitive 인 경우 ,  X>0인 inductive인 경우 각각 임피던스 매칭회로의 변화는 어떻게 되는지 궁금합니다.


항상 감사드립니다.

번호 제목 조회 수
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 48629
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 50106
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [1] 55152
524 Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [1] 241
523 안녕하세요. O2 plasma etching에 대해 궁금한 것이 있습니다. [1] 534
522 산소 플라즈마 처리 관하여 질문드립니다. [1] 230
521 플라즈마의 직진성에 관해 질문드립니다. [2] 676
520 Deposition 진행 중 matcher(shunt,series) 관계 질문 [3] 583
519 ECR 플라즈마에 대해서 질문 드립니다. [1] 247
518 Plasma Dechuck Process가 궁금합니다. 11936
517 HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의 [1] 330
516 Vpp, Vdc 측정관련 문의 [1] 797
515 간단한 질문 몇개드립니다. [1] 188
514 matcher에서 load,tune의 역할이 궁금합니다. [1] 679
513 Si Wafer에 Plasma를 처리했을때 정전기 발생 [1] 225
512 Hollow Cathode glow Discharge 실험 관련해서 여쭤보고싶습니다. [1] file 182
511 에쳐장비HF/LF 그라운드 관련 [2] 2599
510 매쳐 출력값 검토 부탁 드립니다. [1] 293
509 ICP-RIE process 및 plasma에 대해 질문있습니다. [2] 529
508 진학으로 고민이 있습니다. [2] 436
507 플라즈마 형성시 하전입자의 밀도와 챔버에 관련해서 질문드립니다. [2] 352
506 Gas flow rate에 따른 etch rate의 변화가 궁금합니다. [1] 632
505 전자기장 및 유체 시뮬레이션 관련 [1] 205

Boards


XE Login