안녕하세요. 교수님.

현재 반도체 장비업체에서 Dry etch관련 공정 업무를 수행하고있는 연구원입니다.

평소 플라즈마에 대해 공부하며 다른 사람의 질의응답들을 참고하곤 했었는데, 처음 질문글을 남기게 되네요.

플라즈마 관련 공부 및 실험을 진행하다 궁금한 사항이 있어, 질의를 드립니다.


1. 플라즈마를 방전시켰을때, 발생하는 arcing현상이 발생하는 이유가 뭔지 궁금합니다.

   절연 물질이 절연파괴가 되면서 해당 부분으로 전하가 축적되어 전하차이에 의해 발생하는건가요?

   arcing현상을 줄이기위한 방법들은 어떤 것들이 있을까요? 절연층을 두껍게한다거나, Ground 접지를 이용한 방법들 외 다른 방법들도

   있는지요?


2. 추가로 비슷하게 Local plasma? 플라즈마 방전시 안정화되지 못하고 깜빡거리는 현상역시 발생하는 이유에 대해 궁금합니다.

    사용하고 있는 parameter는 Pressure,  gas, Power 등인데, 각 parameter들이 플라즈마 방전이 발생하기에 부족하거나 불안정하여

    발생되는 현상인가요?


감사합니다.



번호 제목 조회 수
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 48630
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 50107
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [1] 55153
523 안녕하세요. O2 plasma etching에 대해 궁금한 것이 있습니다. [1] 535
522 산소 플라즈마 처리 관하여 질문드립니다. [1] 230
521 플라즈마의 직진성에 관해 질문드립니다. [2] 677
520 Deposition 진행 중 matcher(shunt,series) 관계 질문 [3] 584
519 ECR 플라즈마에 대해서 질문 드립니다. [1] 247
518 Plasma Dechuck Process가 궁금합니다. 11939
517 HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의 [1] 330
516 Vpp, Vdc 측정관련 문의 [1] 797
515 간단한 질문 몇개드립니다. [1] 189
514 matcher에서 load,tune의 역할이 궁금합니다. [1] 679
513 Si Wafer에 Plasma를 처리했을때 정전기 발생 [1] 225
512 Hollow Cathode glow Discharge 실험 관련해서 여쭤보고싶습니다. [1] file 182
511 에쳐장비HF/LF 그라운드 관련 [2] 2599
510 매쳐 출력값 검토 부탁 드립니다. [1] 293
509 ICP-RIE process 및 plasma에 대해 질문있습니다. [2] 530
508 진학으로 고민이 있습니다. [2] 436
507 플라즈마 형성시 하전입자의 밀도와 챔버에 관련해서 질문드립니다. [2] 352
506 Gas flow rate에 따른 etch rate의 변화가 궁금합니다. [1] 632
505 전자기장 및 유체 시뮬레이션 관련 [1] 205
504 ICP reflecot power 관련 질문드립니다. [1] 413

Boards


XE Login