Others N2 / N2O Gas 사용시 Plamsa 차이점

2022.05.12 00:29

윤태화 조회 수:1444

안녕하세요. 반도체회사에서  PECVD 장비를 하고있는 윤태화입니다.

 

GAS 종류에 따른 Plamsa 진행시 차이점이 있는지 궁금합니다.

 

1. N2 Gas 로 Plasma 진행 시 장단점

2. N2O Gas 로 Plasma 진행 시 장단점

3. N2 / N2O  두 Gas의 Plasma 차이점 

4. N2 및 N2O GAS 사용으로 Plasma 4~5분 노출 시 챔버 내부 변색 가능성? 한두달 뒤 변색이 될 가능성..

 

위 4개 질문드립니다. 

 

감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] 76727
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20183
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57167
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68699
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92278
749 플라즈마 온도 27780
748 DBD란 27719
747 플라즈마 상태와 RF MATCHING관계 문의 사항 27617
746 플라즈마 챔버 의 임피던스 관련 [2] 27209
745 이온과 라디칼의 농도 file 26995
744 self bias (rf 전압 강하) 26713
743 공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제... [2] 26468
742 dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐 [3] 26185
741 충돌단면적에 관하여 [2] 26161
740 OES 원리에 대해 궁금합니다! [1] 26123
739 스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요? 25582
738 PECVD 매칭시 Reflect Power 증가 [2] 24987
737 스퍼터링에서 DC bias의 감소 원인이 궁금합니다.. 24874
736 Reflrectance power가 너무 큽니다. [1] 24853
735 RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [1] 24772
734 ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의 [1] 24747
733 plasma와 arc의 차이는? 24661
732 H2/O2 플라즈마에 대해서 질문드립니다. 꼭 답변점... [1] 24644
731 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 24580
730 플라즈마가 불안정한대요.. 24516

Boards


XE Login