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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69622
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 94410
783 Impedance I 값을 결정 짓는 요소 관련 질문 [Impedance matching 이해] [1] 232
782 CVD 박막 Clean 중 Ar에 의한 Etch 여부가 궁금합니다. [Ar plasma chemical etching] [1] 236
781 HE LEAK 과 접촉저항사이 관계 [국부 방전과 chucking] [1] 239
780 ICP dry etch 시 공정 문의 사항. [1] 240
779 ICP에서 전자의 가속 [Plasma breakdown 이해] [1] 245
778 Sputtering을 이용한 film deposition [진공 및 오염입자의 최소화] [1] 247
777 AP plasma 공정 관련 문의 [OES 활용 장비 플라즈마 데이터 분석] [1] 248
776 FTIR분석을 이용한 SiO2성막 해석 262
775 ICP에서 biasing 질문 [RF sheath와 self bias] [1] 262
774 챔버의 Plasma density 확인방법 문의드립니다. [플라즈마 모니터링, OES, LP] [1] 263
773 Si 와 SiO의 선택적 식각 관련 문의입니다. 265
772 Microwave & RF Plasma [플라즈마 주파수와 rate constant] [1] 266
771 플라즈마 제균 탈취 가능 여부 [대기압 환경 플라즈마와 라디컬 분포] [1] 268
770 구 대칭으로 편광된 전자기파를 조사할 때에 대한 질문입니다. [초고밀도 플라즈마] [1] file 270
769 ICP Plasma etch chamber 구조가 궁금합니다. [플라즈마 생성 공간과 플라즈마 확산] [1] 270
768 ICP/CCP 플라즈마 식각 공정 개발 [Plasma sheath 및 Plasma generation] [1] 278
767 Forward와 Reflect가 계속해서 걸립니다. [RF generator] [2] file 281
766 Compressive한 Wafer에 대한 질문 [박막] [1] 291
765 대기압 플라즈마 문의드립니다 [플라즈마 전원 이해] [1] 313
764 플라즈마 식각 시 notching 현상 관련 [Ar, O2 플라즈마 생성 특성] [1] 314
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