안녕하세요. 플라즈마 장비를 다루면서 당연시 생각했던건데 이유를 생각해보면 

막상 안떠오를때가 있습니다. 그래서 몇가지 질문드리려고요.

1.같은 메이커 같은 모델의  장비를 쓸때에도 depo rate, etch rate가 제각기 다른데

이런이유를 어떻게 설명해야될까요..

2.하루종일 장비를 안쓰면 etch rate가 달라지는데 leak가 있어서 진공이 달라진것도

아닌데 왜 이런현상이 일어날까요? 이런 현상때문에 일부러 dummy wafer를 칠때가

있습니다.

3.chamber를 open한 직후와 많이 양산이 돌아간 상태에서 마찬가지로 rate가 달라지는데

이유가 있을까요?

4.chamber 벽 표면의 물질이 달라지면 플라즈마의 특성, 쉬스 이런것들이 달라지나요?

(Sputter 장비에서 shield의 부산물 포획특성을 위해 coating의 물질을 바꾸는 경우가 있어

문의드립니다)

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [143] 5825
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 17286
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 53122
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 64501
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 85113
658 Plasma Ignition 시 Gas 사용에 대한 궁금증 요청드립니다. [1] 359
657 수중방전에 대해 질문있습니다. [1] 365
656 magnetic substrate와 플라즈마 거동 [3] 367
655 doping type에 따른 ER 차이 [1] 367
654 PDP 방전갭에 따른 휘도에 관해 질문드려요 [1] 369
653 glass에 air plasma 후 반응에 대해 질문이 있습니다. [1] 371
652 Plasma에 의한 분해 및 치환 반응(질문) [1] 387
651 연속 Plasma시 예상되는 문제와 횟수를 제한할 경우의 판단 기준 [1] file 388
650 산소 플라즈마에 대한 질문입니다... 389
649 Co-relation between RF Forward power and Vpp [2] 389
648 핵융합 질문 [1] 391
647 (PAP)plasma absorption probe관련 질문 [1] 392
646 코로나 방전 처리 장비 문의드립니다. [1] 397
645 Dry Chamber VPP 변동 관련 질문입니다 [1] 404
644 O2 플라즈마 사용에 대한 질문을 드립니다. 408
643 Tribo-Plasma 에 관해서 질문드리고 싶습니다. 415
» 간단한 질문 몇개드립니다. [1] 423
641 전쉬스에 대한 간단한 질문 [1] 431
640 플라즈마 샘플 위치 헷갈림 [1] 433
639 Plasma Arching [1] 436

Boards


XE Login