교수님 안녕하세요. 디스플레이 장비사에서 근무중인 회사원입니다.

 

좋은 내용 정말 감사합니다. 많이 배우고 있습니다.

 

PECVD의 챔버와 standing wave effect에 관한 질문입니다. 

 

챔버의 크기가 클수록 standing wave effect에 의해 챔버 내의 플라즈마가 불균일 하게 형성되어 불균일한 필름이 증착되는 것으로 알고있습니다.

 

'용량결합형 전극에서 가이드링에 의한 전기장 제어' 논문(http://doi.org/10.5370/KIEE.2019.68.11.1465)의 2.1 전기장 불균일도 원인 내용에서 'Wave는 전도체 표면을 따라 전극 아래 중앙부로 이동한다. 이 현상은 축대칭으로 인해 전극 중앙 하부에서 축방향 전기정은 radial 방향으로 미분 값이 0이 되어야 한다. 따라서 전극 아래 중앙부에서는 시간에 따른 전기장이 가장 크거나 가장 작다.'
라고 설명이 나와있습니다. 

 

제가 드리고 싶은 질문은 wave가 중앙부에서 가장 강한지 궁금합니다. 또한 중심부에서 가장 큰 전기장이 형성 되더라도 전기장 에너지가 플라즈마 내부에서 확산되기 때문에 챔버 전체적으로 동일한 플라즈마 밀도를 가져야 하는것 아닌지가 궁금합니다.

 

감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [101] 3648
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 15342
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 50578
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 62996
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [2] 82131
629 산소 플라즈마에 대한 질문입니다... 348
628 ICP Dry Etch 진행시 정전기 발생에 관한 질문입니다. [1] 348
627 Al Dry Etch 후 잔류 Cl 이온 제어를 위한 후처리 방법 [1] 349
626 (PAP)plasma absorption probe관련 질문 [1] 353
625 RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [1] 358
624 간단한 질문 몇개드립니다. [1] 360
623 핵융합 질문 [1] 365
622 Shield 및 housing은 ground 와 floating 중 어떤게 더 좋은지요 [2] 366
621 라디컬의 재결합 방지 [1] 367
620 코로나 방전 처리 장비 문의드립니다. [1] 371
619 플라즈마 이용 metal residue 제거방법 문의드립니다. [1] 373
618 텅스텐 Etch 관련하여 질문드립니다. [1] 373
617 N2 / N2O Gas 사용시 Plamsa 차이점 [1] 382
616 전쉬스에 대한 간단한 질문 [1] 383
615 MFP와 Sheath 관련하여 추가 질문 드립니다. [1] 383
614 Tribo-Plasma 에 관해서 질문드리고 싶습니다. 387
613 안녕하세요 OLED 증착 시 궁금한점이있어 문의드립니다 [2] 396
612 Interlock 화면.mag overtemp의 의미 396
611 전자기장 및 유체 시뮬레이션 관련 [1] 397
610 Bais 인가 Cable 위치 관련 문의 [1] 402

Boards


XE Login