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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 72868
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793 플라즈마 온도 [Density와 Temperature] 28064
792 DBD란 28064
791 플라즈마 상태와 RF MATCHING관계 문의 사항 [Matching과 particle] 27971
790 OES 원리에 대해 궁금합니다! [플라즈마 빛의 파장 정보] [1] 27936
789 플라즈마 챔버 의 임피던스 관련 [2] 27561
788 이온과 라디칼의 농도 [해리도와 전자 에너지 분포] file 27358
787 self bias (rf 전압 강하) 27056
786 dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐 [ESC와 capacity] [3] 26840
785 공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제... [공정 과정 및 장치 상태] [2] 26809
784 충돌단면적에 관하여 [2] 26650
783 스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요? 25697
782 plasma와 arc의 차이는? [Arc의 temperature] 25611
781 Reflrectance power가 너무 큽니다. [RF matching과 breakdown] [1] 25273
780 PECVD 매칭시 Reflect Power 증가 [반사파 형성과 플라즈마 운전 조건] [2] 25247
779 ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의 [ICP Matching과 Circuit model] [1] 25168
778 H2/O2 플라즈마에 대해서 질문드립니다. 꼭 답변점… [폭발과 pressure] [1] 25153
777 스퍼터링에서 DC bias의 감소 원인이 궁금합니다.. 25120
776 RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [장비의 접지, 절연 관리] [1] 25006
775 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 24976
774 [질문] ICP plasma 를 이용하여 증착에 사용하고 있는데요. [Sheath model과 bias] [3] 24897

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