안녕하세요. 플라즈마응용연구실 관라자입니다.

 

금일부터 QnA 글을 작성하기 위해 등업제도를 일부 이용합니다.

 

해당 공지 게시글에 가입 인사를 적어주시면 QnA 글을 쓸 수 있는 권한을 받게 됩니다.

(*별도의 권한 처리 없이 댓글 등록시 바로 QnA 작성이 가능해집니다.)

 

글 작성 전에 반드시 댓글을 남겨주시고 QnA 글을 작성해주시기 바랍니다.

 

감사합니다.

 

** 기존에 글을 작성하셨던 분들도 권한 처리가 필요하므로 간단하게라도 댓글 부탁드립니다.

번호 제목 조회 수
» [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [295] 77443
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20550
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57476
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69002
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 93063
773 플라즈마 온도 27877
772 DBD란 27807
771 플라즈마 상태와 RF MATCHING관계 문의 사항 27710
770 플라즈마 챔버 의 임피던스 관련 [2] 27264
769 이온과 라디칼의 농도 file 27100
768 self bias (rf 전압 강하) 26817
767 공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제... [2] 26533
766 OES 원리에 대해 궁금합니다! [1] 26439
765 dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐 [3] 26302
764 충돌단면적에 관하여 [2] 26240
763 스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요? 25604
762 PECVD 매칭시 Reflect Power 증가 [2] 25006
761 plasma와 arc의 차이는? 24947
760 Reflrectance power가 너무 큽니다. [1] 24942
759 스퍼터링에서 DC bias의 감소 원인이 궁금합니다.. 24934
758 ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의 [1] 24805
757 RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [1] 24795
756 H2/O2 플라즈마에 대해서 질문드립니다. 꼭 답변점... [1] 24730
755 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 24677
754 플라즈마가 불안정한대요.. 24541

Boards


XE Login