Plasma in general RF magnetron sputtering시 플라즈마 off현상
2018.11.22 16:01
안녕하세요. 투명전극을 주제로 실험 및 공부를 하고 있는 학생입니다.
다름이 아니라 저희 연구실에서 sputter장비를 set up하고 있는데 해결을 못하고 있는 문제가 있어서 조언을 요청드립니다.
RF magnetron sputtering 장비이며 4in target 4ea 가 장착되어있는 chamber인데, RF파워 인가시, 초기에 plasma가 발생하였다가 reflect가 올라가면서 불안정적으로 변하면서 완전히 꺼지는 현상이 있습니다. chamber open후 target상태를 보면 target마다 다르지만 erosion track이 비 정상적으로 좁고 깊게 파이거나 damage를 입은것을 확인할 수 있습니다.
초기엔 target gun 의 magnet flux를 의심하였는데 타 회사의 gun에서도 비슷한 경향이 나타나고 있습니다.
1.혹시 matcher에서 mismatch가 발생하면서 이러한 현상이 발생할 수 있나요?(있다면 왜 plasma on초기부터 발생하지 않고 나중에 발생하는지 이유를 알 수 있을까요?
2.혹시 제가 고려하지 못한 다른 제어 요소가 있는지 여쭤보고 싶습니다.
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] | 76542 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20078 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57116 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68615 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 91697 |
203 | 전자 온도에 대한 질문이 있습니다. [1] | 999 |
202 | 아래 382 번 질문에 대한 추가 질문 드립니다. [1] | 982 |
201 | CCP Plasma 해석 관련 문의 [1] | 973 |
200 | Si 표면에 Ar Plasma Etching하면 안되는 이유 [1] | 967 |
199 | Tungsten 표면 Contamination 제거(실명재등록) [1] | 967 |
198 | anode sheath 질문드립니다. [1] | 961 |
197 | RF tune position 과 Vrms의 관계가 궁금합니다 [1] | 959 |
196 | Sticking coefficient 관련 질문입니다. [1] | 955 |
195 | O2 Plasma 에칭 실험이요 [1] | 952 |
194 | 플라즈마를 이용한 오존 발생기 개발 문의 件 [1] | 951 |
193 | 상압플라즈마 제품 원리 질문드립니다 [2] | 949 |
192 | CCP에서 접지된 전극에 기판을 놓았을 때 반응 [1] | 948 |
191 | 3-body recombination 관련 문의드립니다. [2] | 940 |
190 | 플라즈마 기초에 관하여 질문드립니다. [1] | 934 |
189 | Shield 및 housing은 ground 와 floating 중 어떤게 더 좋은지요 [2] | 926 |
188 | 플라즈마 구에서 나타나는 현상이 궁금합니다. [1] | 911 |
187 | Plasma Generator 관련해서요. [1] | 905 |
186 | O2 Asher o-ring 문의드립니다. [1] | 878 |
185 | Dry Chamber VPP 변동 관련 질문입니다 [1] | 868 |
184 | 플라즈마 이용 metal residue 제거방법 문의드립니다. [1] | 860 |
스퍼터 문제에 대해서 아마도 군산대학교 주정훈교수님께 문의하시면 좋을 답변을 얻으실 수 있을 것 같습니다. 문의드려 보시고, 얻게되는 답변이 있으면 본 란에 댓글로 올려 주시면 고맙겠습니다.