Deposition 플라즈마 코팅에 관하여

2004.06.25 16:45

관리자 조회 수:22090 추천:303

질문 ::

저는 직장에 다니는 회사원입니다. 얼마전 선배로 부터 플라즈마 코팅이라는 것을 문의 받았는데, 정확한 답변을 할 수가 없었습니다. 플라즈마 코팅의 원리와 국내 전문가를 소개시켜 주실 수 있는지요?

답변 ::

플라즈마를 이용한 코팅을 한마디로 설명하기는 어렵지만 간단히 생각해 보면 화학물이 시편 표면을 덮는데 플라즈마 환경을 이용한다고 생각할 수 있습니다. 플라즈마는 화학물의 활성에너지를 제공하거나 화학물이 시편 표면과 잘 반응하도록 합니다. 특히 플라즈마 내의 전자에 의해서 기체 상태의 화학물들은 해리되어 래디컬을 형성하여 시편 표면과 활발하게 반응하여 표면에 정착하게 됩니다. 이들 화학물은 시편 표면에 작은 섬을 만들고 그 섬 주변으로 점차 커지는데 이런 섬들이 많아지면 옆의 섬과 연결되면서 시편 전체를 덮게 됩니다. 따라서 시편과 코팅 목적에 알맞는 화학물을 선택하는 것이 매우 중요하며 플라즈마를 이용하고자 한다면 화학물을 기체상태 속에 넣을 수 있어야 합니다. 이렇게 플라즈마의 도움을 받아 표면에 화학물을 코팅하는 기술을 PECVD 혹은 PACVD라고 합니다. 이에 관한 연구는 대단히 활발함으로 주변의 대학 재료공학과에서 전문가를 쉽게 찾으실 수 있을 것 입니다. 혹은 본 란에 답글을 자주 올려주시는 군산대학의 주정훈 교수님이나 울산대학의 천희곤교수님을 찾아 원하시는 코팅에 대한 자문을 받아 보시는 편이 좋을 것 같습니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [266] 76684
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20152
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57159
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68679
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92205
207 전자파 누설에 관해서 질문드립니다. [1] file 21109
206 N2 플라즈마 공정 시간에 따른 Etching rate의 변화 이유가 알고 싶어요 [2] 23756
205 질문이 몇가지 있읍니다. [1] 19191
204 저온 플라즈마에서 이온, 전자, 중성자 온도의 비평형이 생기는 이유에 대해서... [1] 21329
203 H2/O2 플라즈마에 대해서 질문드립니다. 꼭 답변점... [1] 24641
202 dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐 [3] 26178
201 몇가지 질문있습니다 16578
200 플라즈마내의 전자 속도 [1] 21894
199 Plasma Gas의 차이점 [1] 17969
198 matching box에 관한 질문 [1] 29662
197 TMP에 대해 다시 질문 드립니다. 18003
196 터보분자펌프에 대해서 질문 좀 하고 싶어요! 19355
195 [re] 터보분자펌프에 대해서 질문 좀 하고 싶어요! 19537
194 Dry Etcher 에 대한 교재 [1] 22538
193 플라즈마 측정기 [1] 21331
192 Dry Etcher 내 reflect 현상 [2] 22236
191 Arcing [1] 28640
190 RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [1] 24772
189 전자온도에 대하여 궁금한 사항이 있습니다. [1] 18737
188 궁금해서요 16315

Boards


XE Login