안녕하세요. 전남대학교 정세훈이라고 합니다.
몇가지 궁금한점이 있어 질문드립니다

a)       the typical energy of sputtered Cu atoms if the Ar ion has an energy of 500 eV.

b)       the typical energy of sputtered Cu atoms if the Ar ion has an energy of 5000 eV

Cu원자의 에너지값이 어떻게되나요? 여러논문을 검색해보았는데
thompson distribution E/(E+Eb) 에 대해서는 나오는데.. 계산이 잘 안돼서요..
--------------------
위의 질문에 대한 참고 자료를 군산대학교 주정훈교수님께서 올려 주셨습니다. 그림과 같이 Kr 입자 조사에 의한 스퍼터링된 Cu의 에너지 및 이탈 속도 함수를 보여주고 있습니다. Ar과 조사 입자의 질량 차이가 있을 뿐 이를 고려한다면 거의 현상은 유사할 것으로 판단됩니다. 이 자료는 교재에 있다고 하니 참고하시기 바랍니다. 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [99] 3625
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 15309
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 50564
» kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 62973
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [2] 81994
88 47th American Vacuum Society International Symposium 2000 file 21362
87 플라즈마내의 전자 속도 [1] 21503
86 manetically enhanced plasmas 21533
85 플라즈마의 발생과 ICP 21584
84 펄스바이어스 스퍼터링 답변 21692
83 플라즈마 온도 질문 + 충돌 단면적 21742
82 Dry Etcher 내 reflect 현상 [2] 21776
81 플라즈마 코팅에 관하여 21893
80 Dry Etch장비에서 Vdc와 Etch rate관계 [1] 22022
79 Peak RF Voltage의 의미 22094
78 Dry Etcher 에 대한 교재 [1] 22269
77 pulse plasma 측정을 위한 Langmuir probe 사용 방법 관련.. [1] 22298
76 MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [3] 22346
75 floating substrate 에서 sheath 형성 과정 의문점 [1] 22346
74 [질문] Plasma density 측정 방법 [1] 22347
73 plasma와 arc의 차이는? 22474
72 [질문] ICP plasma 를 이용하여 증착에 사용하고 있는데요. [3] 22502
71 고온플라즈마와 저온플라즈마 22513
70 입력전력에 따른 플라즈마 밀도 변화 (ICP/CCP) 22520
69 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. 22675

Boards


XE Login