안녕하세요 플라즈마 소스개발을 하고 있는 김상규라고 합니다.

전자기장 시뮬레이션을 통해 ICP Source 를 개발 중에 있습니다만 이해가 되지 않는 부분이 있어 질문 드립니다.

조건 : 1000mm X 1000mm chamber , process gap 250mm , icp source , H-field 관측 , Source only (bias x)

현상 : 상부 Antenna 근처에서 측정(antenna로 부터 30mm)  Map 이 center high 인데 substrate (substrate 표면으로 부터 5mm) 로 내려오  면 center 가 low 가 됨. (stage 에 절연층을 쌓아도 비슷함)

질문 : side, 4corner 가 low 로 되는 것은 챔버 벽면으로 electron 이 빠져나가면서 그럴수 있다고 생각 됩니다만

          왜 Chamber 벽면에서 가장 먼 가장자리(substrate center position) 의 field 가 약해지는 것 인지 궁금합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76542
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20078
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57116
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68615
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91697
203 전자 온도에 대한 질문이 있습니다. [1] 999
202 아래 382 번 질문에 대한 추가 질문 드립니다. [1] 982
201 CCP Plasma 해석 관련 문의 [1] file 973
200 Si 표면에 Ar Plasma Etching하면 안되는 이유 [1] 967
199 Tungsten 표면 Contamination 제거(실명재등록) [1] 967
198 anode sheath 질문드립니다. [1] 961
197 RF tune position 과 Vrms의 관계가 궁금합니다 [1] 959
196 Sticking coefficient 관련 질문입니다. [1] 955
195 O2 Plasma 에칭 실험이요 [1] 952
194 플라즈마를 이용한 오존 발생기 개발 문의 件 [1] 951
193 상압플라즈마 제품 원리 질문드립니다 [2] 949
192 CCP에서 접지된 전극에 기판을 놓았을 때 반응 [1] 948
191 3-body recombination 관련 문의드립니다. [2] 940
190 플라즈마 기초에 관하여 질문드립니다. [1] 934
189 Shield 및 housing은 ground 와 floating 중 어떤게 더 좋은지요 [2] 926
188 플라즈마 구에서 나타나는 현상이 궁금합니다. [1] 911
187 Plasma Generator 관련해서요. [1] 905
186 O2 Asher o-ring 문의드립니다. [1] 878
185 Dry Chamber VPP 변동 관련 질문입니다 [1] 868
184 플라즈마 이용 metal residue 제거방법 문의드립니다. [1] 860

Boards


XE Login