Sheath CCP 에서 Area effect(면적) ?

2004.06.21 15:49

관리자 조회 수:21376 추천:331

질문 ::

안녕하세요
며칠 전에 교수님에게 교육을 받고 궁금한 것이 있어 멜을 보냅니다.

self_bias 를 만들기 위해서 blocking capacitor 와 전극의 면적크기를 달리하는 데, 면적의 크기를 달리 하면 왜 Self-bais 가 향상되죠?

답변 ::

Self bias에 관한 이전의 설명을 참조하시기 바랍니다.

단, blocking capacitor와 전극의 면적이 크기를 달리한다고 생각하였는데 blocking capacitor의 역할은
반응기의 electrode와 연결된 power supply에 높은 직류 전류가 흐르는 것을 막기위한 안전장치로써
electrode와 직렬 연결되어 있는 capacitor를 의미하며, 이 capacitor는 또한 DC 전류를 block함으로써
capacitor와 연결되어 있는 electrode의 전위를 음으로 shift시키게 됩니다 (self bias). 또한 electrode 의 전극의 크기가
bias 전위의 크기에 영향을 주는 이유는 이 전극이 플라즈마와 직렬로 연결되어 있음으로 플라즈마와 전극 사이에  
형성되어 있는 sheath 영역의 capacitance의 크기가 변하기 때문입니다. 일반적으로 면적이 넓어지면 capacitance는 커지나
전류의 크기가 같아하고 (직렬회로) 따라서 같은 시간동안 하전되는 전하량은 전극의 크기에 상관없이 같아야 할 것입니다.
따라서 C가 큰 곳에는 voltage drop이 작아야 하며 C가 작은 곳에서는 V가 크게 되고 이 C는 전극의 크기, V는 sheath potential
즉 플라즈마에서 전극으로 전위가 강하되는 값을 나타냅니다. 따라서 크기가 작은 전극 앞에서의 전위변화가 매우
크게 나타나게 되는 것 입니다.  

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [266] 76646
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20144
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57146
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68668
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92120
187 플라즈마 이용 metal residue 제거방법 문의드립니다. [1] 866
186 문의 드립니다. [1] 865
185 RF 전압인가 시 LF와 HF 에서의 Sheath 비교 [1] 857
184 RF 전류가 흐르는 Shower head를 TC로 온도 측정 할 때 [1] 857
183 안녕하세요 플라즈마의 원초적인 개념에서 궁금한 점이 생겨서 질문드립니다. [1] 852
182 RF MATCHING 관련 교재 추천 부탁드립니다 [1] 851
181 연면거리에 대해 궁금합니다. [1] 841
180 PPV(플라즈마 용융 유리화)에 관해 질문드립니다. [1] 841
179 매쳐 출력값 검토 부탁 드립니다. [1] 839
178 RIE 공정시에 형성되는 두 효과를 분리해 보고 싶습니다. [1] 839
177 ICP Dry Etch 진행시 정전기 발생에 관한 질문입니다. [1] 826
176 플라즈마 장치 관련 기초적 질문입니다. [1] 822
175 방전수 활성종 중 과산화수소 측정에 관련하여 질문드립니다. [1] 811
174 RF 파워서플라이 매칭 문제 807
173 플라즈마용사코팅에서의 carrier gas [1] 804
172 ECR ion source에서 plasma가 켜지면 RF reflect가 심해집니다. [2] 803
171 Si Wafer에 Plasma를 처리했을때 정전기 발생 [1] 797
170 DBD Plasma Actuator 원리에 대한 질문입니다. [1] 797
169 플라즈마 충격파 질문 [1] 792
168 Self bias 내용 질문입니다. [1] 791

Boards


XE Login