CCP capacitively/inductively coupled plasma

2004.06.21 15:12

관리자 조회 수:17791 추천:254

capacitively/inductively coupled plasma

한가지 잘 못 이해하고 있는 것이 있습니다. 전극이 반응기 내외부에 있는 여부로 ICP/CCP 플라즈마를 구별하지 않습니다.
일반적으로 capacitively coupled plasma 는 전극 사이에 형성되는 전기장에 의해 전자가속이 일어나 에너지를 얻어 이온화에
의해 만들어진 플라즈마를 의미하며 Inductively coupled plasma는 말 그대로 안테나에 흐르는 전류에서 형성된 자기장이 시간이
따라서 변할 때 자기장 주변으로 형성되는 전기장으로 부터 전자가 가속 에너지를 얻고 이온화를 통해 만들어진 플라즈마를
의미하는 말로써 써야 합니다. 물론 일반적인 ICP 반응기에서 CCP현상에 의한 플라즈마 발생이 일어나기도 합니다.
약간의 혼돈은 여기서 생길 수 있습니다만 두 현상을 구분해서 이해하는 것이 좋습니다.
아울러 다음 항을 참고하기 바랍니다. (271/259/225/205/126/95)
냉각수로 power leak가 있을 수도 있습니다. 일반 가정용 물을 냉각수로 사용하는 것은 좋은 방법이 아닙니다. 적어도 증류수를 사용하도록 하는 편이 옳습니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76543
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20078
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57116
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68615
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91697
183 문의 드립니다. [1] 858
182 플라즈마 세정 장비 (CCP구조)에서 자재 로딩 수에 따른 플라즈마 효과 및 Discolor [1] file 856
181 RF 전류가 흐르는 Shower head를 TC로 온도 측정 할 때 [1] 850
180 RF MATCHING 관련 교재 추천 부탁드립니다 [1] 847
179 안녕하세요 플라즈마의 원초적인 개념에서 궁금한 점이 생겨서 질문드립니다. [1] 842
178 PPV(플라즈마 용융 유리화)에 관해 질문드립니다. [1] 840
177 매쳐 출력값 검토 부탁 드립니다. [1] 836
176 RIE 공정시에 형성되는 두 효과를 분리해 보고 싶습니다. [1] 835
175 RF 전압인가 시 LF와 HF 에서의 Sheath 비교 [1] 832
174 연면거리에 대해 궁금합니다. [1] 832
173 ICP Dry Etch 진행시 정전기 발생에 관한 질문입니다. [1] 825
172 플라즈마 장치 관련 기초적 질문입니다. [1] 818
171 방전수 활성종 중 과산화수소 측정에 관련하여 질문드립니다. [1] 809
170 RF 파워서플라이 매칭 문제 800
169 ECR ion source에서 plasma가 켜지면 RF reflect가 심해집니다. [2] 792
168 DBD Plasma Actuator 원리에 대한 질문입니다. [1] 792
167 Si Wafer에 Plasma를 처리했을때 정전기 발생 [1] 791
166 플라즈마용사코팅에서의 carrier gas [1] 789
165 플라즈마 충격파 질문 [1] 785
164 새집 증후군 없애는 플러스미 - 플라즈마에 대해서 [1] 782

Boards


XE Login