Sheath plasma and sheath, 플라즈마 크기
2004.07.02 00:28
질문 ::
sheath가 형성된 부분은 전위가 매우 낮다가 일정영역에서는
높은 전위로 일정하게 유지되는데...
그렇다면 플라즈마내에서 voltalge drop이 있다고 해야하는 건가요??
어디서 어디까지가 플라즈마 형성 영역으로 봐야하는건지
잘 모르겠습니다.
아님 그냥 밀도 차이로 보면 되는건가요??
애매해서 질문드립니다.
답변 ::
플라즈마는 준중성상태를 유지하고 집단행동을 할 정도의 많은 하전입자의 모임입니다. 플라즈마 쉬스는 플라즈마의 경계에서 생기는
플라즈마의 일부분으로 쉬스에서는 플라즈마의 본래
특성인 준 중성상태의 조건을 위배하며 이온이 많고 강한 전기장이 형성되는 영역입니다. 쉬스와 플라즈마 본체 사이에는 플라즈마 온도의 절반에 해당하는 전위차를 갖으며 이 전위차로 부터 이온이 에너지를 받아 쉬스로 입사되게 되는, 즉 이온이 가속되는 영역인 프리 쉬스 (전외장)이 형성되어 있습니다. 프리쉬스 내에서는 플라즈마의 준 중성 상태는 유지됩니다.
따라서 플라즈마 특성이 유지되는 곳으로 플라즈마
크기를 정의한다면 쉬스 영역을 제외하고 생각하는
편이 옳을 수 있습니다. 정확히 이야기 하면 프리 쉬스 (전외장)까지
이겠지요. 하지만, 플라즈마 상태가
유지되는 곳의 그 가장자리에는 늘 쉬스가 형성되어 있음으로
플라즈마와 쉬스를 분리해서 플라즈마 용적을 생각하기는 어렵습니다.
쉬스에 대해서는 여러차례 설명을 했으니 이전 설명을 참고하기 바랍니다.
댓글 0
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] | 76539 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20076 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57115 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68613 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 91695 |
183 | 플라즈마와 사용되는 기체선택 | 18232 |
182 | sputtering | 18282 |
181 | PDP 에 대해서.. | 18302 |
180 | 실생활에서 사용되는 플라즈마 | 18310 |
179 | Faraday shielding & Screening effect | 18343 |
178 | 물리적인 sputterting | 18359 |
177 | 질문 있습니다. [1] | 18367 |
176 | RF compensate probe | 18451 |
175 | 형광등에서 일어나는 물리적인 현상 | 18519 |
174 | surface wave plasma 에 대해서 [1] | 18525 |
173 | 최적의 펌프는? | 18530 |
172 | 플라즈마을 막는 옷의 소재는? | 18552 |
171 | 핵융합 발전에서는 폐기물이 않나오는 .... | 18559 |
170 | 주변의 플라즈마에 대하여 | 18652 |
169 | 전자온도에 대하여 궁금한 사항이 있습니다. [1] | 18693 |
168 | 플라즈마진단법엔 어떤것이? | 18715 |
167 | 플라즈마의 환경이용 | 18757 |
166 | 등온플라즈마와 비등온플라즈마 | 18762 |
165 | RF를 이용하여 Crystal 세정장치 [1] | 18874 |
164 | 플라즈마에 관하여... | 18957 |