Sheath plasma and sheath, 플라즈마 크기

2004.07.02 00:28

이석근 조회 수:23614 추천:256

질문 ::

sheath가 형성된 부분은 전위가 매우 낮다가 일정영역에서는
높은 전위로 일정하게 유지되는데...

그렇다면 플라즈마내에서 voltalge drop이 있다고 해야하는 건가요??

어디서 어디까지가 플라즈마 형성 영역으로 봐야하는건지
잘 모르겠습니다.

아님 그냥 밀도 차이로 보면 되는건가요??

애매해서 질문드립니다.


답변 ::

플라즈마는 준중성상태를 유지하고 집단행동을 할 정도의 많은 하전입자의 모임입니다. 플라즈마 쉬스는 플라즈마의 경계에서 생기는
플라즈마의 일부분으로 쉬스에서는 플라즈마의 본래
특성인 준 중성상태의 조건을 위배하며 이온이 많고 강한 전기장이 형성되는 영역입니다. 쉬스와 플라즈마 본체 사이에는 플라즈마 온도의 절반에 해당하는 전위차를 갖으며 이 전위차로 부터 이온이 에너지를 받아 쉬스로 입사되게 되는, 즉 이온이 가속되는 영역인 프리 쉬스 (전외장)이 형성되어 있습니다. 프리쉬스 내에서는 플라즈마의 준 중성 상태는 유지됩니다.

따라서 플라즈마 특성이 유지되는 곳으로 플라즈마
크기를 정의한다면 쉬스 영역을 제외하고 생각하는
편이 옳을 수 있습니다. 정확히 이야기 하면 프리 쉬스 (전외장)까지
이겠지요. 하지만, 플라즈마 상태가
유지되는 곳의 그 가장자리에는 늘 쉬스가 형성되어 있음으로
플라즈마와 쉬스를 분리해서 플라즈마 용적을 생각하기는 어렵습니다.

쉬스에 대해서는 여러차례 설명을 했으니 이전 설명을 참고하기 바랍니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [128] 5604
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 16885
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 51347
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 64210
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 84186
71 [질문] ICP plasma 를 이용하여 증착에 사용하고 있는데요. [3] 22704
70 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. 22727
69 No. of antenna coil turns for ICP 22788
68 DC glow discharge 22849
67 plasma와 arc의 차이는? 22861
66 광플라즈마(Photoplasma)라는 것이 있는가요? 23008
65 CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점. 23031
64 self Bias voltage 23051
63 플라즈마 물리학책을 읽고 싶습니다. 23068
62 Arcing 23086
61 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 23107
60 N2 플라즈마 공정 시간에 따른 Etching rate의 변화 이유가 알고 싶어요 [2] 23293
59 OES 원리에 대해 궁금합니다! [1] 23400
58 플라즈마 쉬스 23513
» plasma and sheath, 플라즈마 크기 23614
56 Dechucking 시 wafer 상의 전하 문제 23764
55 플라즈마에 관해 질문 있습니다!! 23877
54 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 24039
53 H2/O2 플라즈마에 대해서 질문드립니다. 꼭 답변점... [1] 24252
52 플라즈마가 불안정한대요.. 24321

Boards


XE Login