현재 BTO 박막을 CF4/Ar gas 를 이용하여 플라즈마 식각을 진행하고 있습니다. 

OES 분석을 위해 CF3 파장이 필요한데 제가 가지고 있는 data에 없어서 이렇게 문의 드립니다.

혹시 OES 분석이나 실험 분석에 사용했던 CF3의 파장이 있으시다면 알려주실수 있으신가요?

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [113] 4911
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 16246
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 51250
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 63756
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [2] 83572
59 N2 플라즈마 공정 시간에 따른 Etching rate의 변화 이유가 알고 싶어요 [2] 23235
58 플라즈마 쉬스 23470
57 plasma and sheath, 플라즈마 크기 23567
56 Dechucking 시 wafer 상의 전하 문제 23712
55 플라즈마에 관해 질문 있습니다!! 23752
54 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 23940
53 플라즈마의 정의 24021
52 H2/O2 플라즈마에 대해서 질문드립니다. 꼭 답변점... [1] 24215
51 플라즈마가 불안정한대요.. 24296
50 ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의 [1] 24305
49 Reflrectance power가 너무 큽니다. [1] 24357
48 스퍼터링에서 DC bias의 감소 원인이 궁금합니다.. 24423
47 RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [1] 24511
46 PECVD 매칭시 Reflect Power 증가 [2] 24550
45 dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐 [3] 25150
44 충돌단면적에 관하여 [2] 25388
43 스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요? 25401
42 공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제... [2] 25876
41 self bias (rf 전압 강하) 25908
40 이온과 라디칼의 농도 file 26302

Boards


XE Login