안녕하세요?

 

장비업체에서 근무하고 있는 엔지니어 입니다.

 

예전 책에서 공부한 바에 따르면 압력이나 챔버가 일정한 상태에서는

 

RF Power가 증가하면 전자의 에너지는 증가할 수 있지만 이 에너지는 이온화 과정에서 잃어버리기 때문에

 

밀도는 증가하는 것이고 Te는 일정하다고 알고있었는데,

 

실제 플라즈마 진단 테스트를 해보니까

 

RF Power가 증가함에 따라 플라즈마 밀도와 전자온도 다 증가하는 결과를 얻었습니다.

 

소스 타입은 ICP이고 수소 플라즈마 입니다.

 

이 경우, 전자온도가 매우 높아서 이온화를 하고도 에너지가 남을 만큼 큰 에너지를 얻었기 때문인가요?

 

어떤 메커니즘으로 이런 현상이 일어나는지 궁금합니다.

 

답변 주시면 감사하겠습니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [313] 79248
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 21265
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 58065
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69623
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 94413
203 플라즈마 온도중 Tr의 의미 17868
202 스퍼터링 후 시편표면에 전류가 흘렀던 흔적 [Capacitance와 DC ripple] 17899
201 플라즈마 응용분야 17911
200 QMA에서 electron beam의 generation 과정 [1] 17926
» RF Power에 따라 전자온도가 증가하는 경우에 대하여 궁금합니다. [Power와 Gas ionization] [1] 17939
198 안녕하세요 반도체 공정 중 용어의 개념이 헷갈립니다. [공정 용법] [1] 17956
197 electrode gap 18016
196 Plasma of Bio-Medical Application 18030
195 플라즈마를 알기위해서는 어떤것을 알아두는 것이 좋.. [플라즈마 기초] 18050
194 플라즈마의 정의 18076
193 Splash 발생 및 감소 방안은 없는지요? [Splash와 TG Maker] 18096
192 증착에 대하여... 18144
191 DBD plasma [Excitation과 Power Current] 18145
190 Plasma Gas의 차이점 [플라즈마 화학 반응 및 에너지 전달] [1] 18161
189 진로상담 [플라즈마 응용분야] 18183
188 저온 플라즈마에 관한 질문 18227
187 rotational vibration excitation [TLD와 IRLAS] 18230
186 마그네트론관 또는 그외반도체소자로 물을 고열증발가능? 18233
185 ICP에 대하여 [DC glow 방전과 ICP 플라즈마 발생] 18253
184 플라즈마와 사용되는 기체선택 18317

Boards


XE Login