Plasma in general Frequnecy에 따라 플라즈마 영역이 달라질까요?

2018.12.26 15:02

윤통 조회 수:486

PLASMA SPACING은 고정한채 Frequency만 조절하여 플라즈마 세로 영역을 확장할 수 있을까요?

Frequecny가 low일수록 이온의 움직일 수 있는 시간이 늘어 이온이 아래위로 더 움직일 수 있을거 같은데

이를 증명할 수 있는 방법이나, 이 사실에 대해 아시는 분 답변 부탁드립니다.

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [182] 75027
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 18870
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 56343
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 66868
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 88354
99 안녕하세요. Plasma etch rate에 관하여 질문이 있습니다. [1] 589
98 라디컬의 재결합 방지 [1] 588
97 Plasma Ignition 시 Gas 사용에 대한 궁금증 요청드립니다. [1] 587
96 RF 파워서플라이 매칭 문제 586
95 Ion과 Radical의 이동 거리 및 거리에 따른 농도와 증착 품질 관련 [1] 582
94 기판 위에서 Radical의 운동역학에 관하여 질문드립니다. [2] 582
93 전자밀도 크기에 대하여 질문드립니다. (Ar, O2, N2 가스) [1] 579
92 반도체 관련 플라즈마 실험 [1] 575
91 Hollow Cathode glow Discharge 실험 관련해서 여쭤보고싶습니다. [1] file 575
90 플라즈마 기본 사양 문의 [1] 571
89 안녕하세요 OLED 증착 시 궁금한점이있어 문의드립니다 [2] 570
88 ICP 대기압 플라즈마 분석 [1] 566
87 Dusty Plasma의 진단에 관해서 질문드립니다. [1] file 565
86 analog tuner관련해서 질문드립니다. [1] 561
85 CF3의 wavelength가 궁금해서 질문드립니다. [1] 560
84 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다 [1] 559
83 O2 플라즈마 사용에 대한 질문을 드립니다. 558
82 플라즈마를 통한 정전기 제거관련. [1] 546
81 RF magnetron sputtering시 플라즈마 off현상 [1] 544
80 RPC CLEAN 시 THD 발생 [1] 544
쓰기
태그

Boards

XE Login