Others VPS 공정에서 압력변수관련 질문입니다.
2019.05.15 08:55
안녕하세요. 제가 최근에 플라즈마 코팅관련 회사에 입사하여 현재 플라즈마 공부중 입니다.
현재 VPS장비로 테스트 중인데 0~1 torr 보다 30~50 torr 일 떄 플라즈마제트의 모습이 훨씬 안정적인 이유를 어떻게 설명할 수 있을까요?
0~1 torr 일 때는 플라즈마의 형상이 지나치게 두껍고 불안정적인 모습입니다. 반면 챔버 내부의 압력을 증가시켰을 때는 훨씬 안정적이고
얇은 플라즈마의 형태를 띄고 있습니다. 이를 residence time과 관련해서 이해를 해야할까요?
아직 많은 논문들을 찾진 못했지만 대부분의 논문에서도 30~300 torr로 실험한 조건들이 많아 보였습니다.
또 다른 한가지 질문은 VPS 공정에서 분위기가스 즉 챔버내를 아르곤같은 불활성기체로 채워주는 이유는 단순하게 산화나 질화등을 막기
위함인가요? 분위기가스의 역할을 어떻게 정의하면 될까요?
기초적인 질문 죄송합니다. 답변 주시면 감사하겠습니다!
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] | 76540 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20076 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57115 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68615 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 91695 |
143 | 기판 위에서 Radical의 운동역학에 관하여 질문드립니다. [2] | 692 |
142 | 플라즈마 절단시 C와 N의 결합가능성 [2] | 689 |
141 | center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 [1] | 687 |
140 | 정전척의 chucking voltage 범위가 궁금합니다. [1] | 677 |
139 | 안녕하세요. 플라즈마 기체분자종에 따른 기판charing정도차이 문의 [1] | 676 |
138 | RF 주파수에 따른 차이점 [1] | 673 |
137 | 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다 [1] | 673 |
136 | 플라즈마 진단 공부중 질문 [1] | 670 |
135 | [재질문]에칭에 필요한 플라즈마 가스 [1] | 661 |
134 | RF Frequency 가변과 FORWARD POWER의 상관관계 [2] | 650 |
133 | 반도체 METAL ETCH 시 CH4 GAS의 역할. [1] | 650 |
132 | RF magnetron sputtering시 플라즈마 off현상 [1] | 650 |
131 | analog tuner관련해서 질문드립니다. [1] | 650 |
130 | 주파수 증가시 플라즈마 밀도 증가 [1] | 639 |
129 | Polymer Temp Etch [1] | 635 |
128 | Dusty Plasma의 진단에 관해서 질문드립니다. [1] | 633 |
127 | RPC CLEAN 시 THD 발생 [1] | 629 |
126 | 주파수 변화와 Plasma 온도 연관성 [1] | 617 |
125 | 플라즈마 기본 사양 문의 [1] | 614 |
124 | 챔버 시즈닝에 대한 플라즈마의 영향성 [1] | 601 |
VPS 문의는 전북대학의 서준호 교수님께 여쭈어 보시면 속시원한 답을 구할 수 있으실 것 같습니다.